[发明专利]静电雾化装置及包括该装置的亲水处理装置

权利要求书

1.一种静电雾化装置(A)，用于增加积聚在处理对象(1)表面上的低亲水性积聚物(15)的亲水性，所述静电雾化装置(A)包括：

雾化电极(6)，其生成加有静电电荷的雾化水滴；

供水部件(8)，其将水供给至所述雾化电极(6)；及

加电压部件(9)，其向供给至所述雾化电极(6)的水施加电压，其中所述加有静电电荷的雾化水滴供给至所述处理对象(1)，以增加所述积聚物(15)的亲水性。

2.如权利要求1所述的静电雾化装置(A)，还包括：

相对电极(7)，其沿朝向所述处理对象(1)的方向与所述雾化电极(6)隔开。

3.如权利要求1所述的静电雾化装置(A)，其中：

所述供水部件(8)包括冷却装置(10，11)，所述冷却装置热耦合至所述雾化电极(6)以冷却所述雾化电极(6)，从而在所述雾化电极(6)的表面连续产生凝结水；且

所述雾化电极(6)导致所述凝结水的瑞利破碎以生成加有静电电荷的雾化水滴。

4.如权利要求1所述的静电雾化装置(A)，其中所述处理对象(1)包括作物，并且所述低亲水性积聚物(15)包括涂在所述作物上的蜡。

5.一种亲水处理装置(B)，包括：

如权利要求1～4中任一项所述静电雾化装置(A)；及

容纳箱(2)，其容纳处理对象(1)，其中从所述静电雾化装置(A)将加有静电电荷的雾化水滴供给入容纳箱(2)。

6.如权利要求5所述的亲水处理装置，其中每秒生成0.15×10¹⁶或以上的加有静电电荷的雾化水滴。

7.如权利要求5或6所述的亲水处理装置，还包括：

清洁部件(3)，其将清洁水供给入容纳所述积聚物的亲水性已增加的所述处理对象(1)的所述容纳箱(2)，以对所述积聚物进行清洁处理。

8.一种增加积聚物(15)的亲水性的方法，所述积聚物为低亲水性且积聚在处理对象(1)的表面，所述方法包括：

将由根据权利要求1所述的静电雾化装置(A)生成的加有静电电荷的雾化水滴连续供给到所述处理对象(1)持续预定时间。

9.一种通过用水清洗而去除积聚在处理对象(1)的表面且为低亲水性的积聚物(15)的方法，所述方法包括：

在用水清洗所述处理对象(1)之前，将由根据权利要求1所述的静电雾化装置(A)生成的加有静电电荷的雾化水滴连续供给到所述处理对象(1)并持续预定时间，以增加所述积聚物(15)的亲水性。