[发明专利]制备1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物的方法无效
申请号: | 200980132077.1 | 申请日: | 2009-07-16 |
公开(公告)号: | CN102124013A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | K·马托斯;A·J·阿特来赛;D·F·罗达;S·皮奇尔迈尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 二氧 杂硼杂六 环化 方法 | ||
发明领域
本发明涉及一种制备1,3,2-二氧杂硼杂六环(1,3,2-dioxaborinane)化合物的新方法。
发明背景
用频哪醇硼烷直接硼基化芳族卤化物的方法是在药物应用中日益受关注的。使用低成本的二醇例如2-甲基-2,4-戊二醇和2,2-二甲基-1,3-丙二醇将能将直接硼基化应用扩展到农业化学方法中。需要二醇的更低成本的硼烷衍生物来制备药物和农业化学领域中的活性试剂。
Woods等人首先报道了4,4,6-三甲基-1,3,2-二氧杂硼杂六环(HexB)的合成(Woods,W.G.;Strong,P.L.,J.Am.Chem.Soc.1966,88,4667;US 3,383,401和US3,064,032)并涉及一种用硼氢化钠和相应的2-氯-4,4,6-三甲基-1,3,2-二氧杂硼杂六环形成HexB的方法。此外,报道了在乙醚中从乙硼烷以低产率合成HexB。
Murata等(Murata,M.;Takeshi,O.;Watanabe,S.;Masuda,Y.;Synthesis,2007,3,351)最近报道了从二甲基硫化硼烷(DMSB)和己二醇合成4,4,6-三甲基-1,3,2-二氧杂硼杂六环。此合成获得的HexB含有痕量的二甲基硫(DMS)并具有强的臭气。
另外,Chavant等(Praveen Ganesh,N.:d’Hondt,S.;Yves ChavantP.)报道了从碘/NaBH4在二甘醇二甲醚中形成乙硼烷的方法,然后与己二醇在甲苯或二氯甲烷中的溶液反应,参见J.Org.Chem.2007,72,4510-4514。
RU-A-2265023涉及一种获得频哪醇硼烷的方法。4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧杂硼杂六环(频哪醇硼烷)是通过频哪醇与乙硼烷通常在乙醚作为溶剂的存在下在5-36℃的温度反应获得的。频哪醇与乙硼烷按照1∶0.45-0.55的摩尔比使用。
HexB是可商购的试剂,与其它试剂相比具有以下优点:
-与其它硼烷试剂相比具有高稳定性,这是由于在此过程中形成的稳定化化合物;
-在稳定化化合物的存在下在55℃下进行DOT检测6星期的期间没有形成压力;
-能在不分解的情况下运输;
-如果充分稳定的话,不需要冷冻运输;
-除了用做稳定剂的工艺副产物之外不需要额外的稳定剂或添加剂;
-根据制备工艺的优化,不需要蒸馏。
发明概述
本发明的目的是提供一种制备1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物的新方法,所述1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物不含痕量的二甲基硫(DMS)并且没有臭气,且能在不需要额外稳定剂或添加剂的情况下是储存稳定的。此外,从此方法获得的HexB应当优选处于不需要任何费力的后处理或提纯的纯度水平。
此目的通过一种制备通式(I)的1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物的方法实现:
其中每个R各自选自H和C1-6烷基,
其中使通式(II)的二醇与乙硼烷在不使用溶剂的情况下反应:
HO-CRR-CRR-CRR-OH (II)。
残基R可以彼此是相同或不同的。根据本发明的一个实施方案,二甲基醚可以用做溶剂。
根据本发明,发现通式(II)的二醇可以与乙硼烷在不使用溶剂的情况下反应,尤其当将乙硼烷加入二醇或将这两者同时和/或连续地加入反应器中。发明人发现在上述不使用溶剂的方法中,获得的HexB含有仅仅稳定量的B(OR)3,所以不需要蒸馏。通常,可以获得具有低至0或0.01-10重量%的B(OR)3含量的产物。本发明方法获得了不含DMS、溶剂和过量硼酸酯的HexB。产物在55℃下储存6星期是稳定的,这取决于稳定程度。所以,不需要添加剂如DMS来稳定产物。
本发明允许制备和使用不含DMS的硼基化试剂。基于DMSB的二氧杂硼杂六环总是需要硼烷配合物来合成,并通常含有DMS。产物是基本不含溶剂或完全不含溶剂的,使得不需要除去溶剂或DMS副产物。
根据本发明,发现通式B(OR’)3的化合物能稳定1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物,尤其是下列化合物。
因此,本发明也涉及一种稳定1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物的方法,包括使1,3,2-二氧杂硼杂六环化合物与通式(III)的化合物或其低聚物接触的步骤:
B(OR’)3 (III)
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