[发明专利]疏水化二氧化硅颗粒的分散体及其粒料无效

专利信息
申请号: 200980128016.8 申请日: 2009-06-03
公开(公告)号: CN102099424A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: W·洛茨;G·佩莱;U·迪纳;S·赖茨 申请(专利权)人: 赢创德固赛有限公司
主分类号: C09C1/30 分类号: C09C1/30;C09D7/12
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 于辉
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 疏水 二氧化硅 颗粒 散体 及其
【权利要求书】:

1.经表面改性的二氧化硅颗粒的分散体的制备方法,所述颗粒的平均粒径不大于100nm,所述方法通过高压研磨预分散体进行,所述预分散体包含

a)10重量%-50重量%的经表面改性的二氧化硅颗粒,所述颗粒

-是至少部分聚集的,并且

-通过Si-O-Si键与表面改性组分连接,并且在它们的表面上仍具有反应性基团,

b)至少一种通式A的二醇单醚

H3C(CH2)m-O-(CH2)n-[O-(CH2)o]p-OH(A)

其中,

m=0、1、2或3,

n和o=2、3或4,并且

p=0或1,

c)至少一种通式B的羧酸酯

H2x+1Cx-O-CH2-(CHR)-[O-CHR]y-O-C(=O)-CzH2z+1(B)

其中,

R=H、CH3、C2H或C3H7

x和z=1、2或3,并且

y=0或1,

d)A/B的摩尔比是10∶90至40∶60,并且m、n、o、p、x、y和z彼此独立。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所使用的经表面改性的二氧化硅颗粒来自热解法。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于使用H3C(CH2)3-O-(CH2)2-OH。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于使用H3C-O-CH2-CHCH3-O-C(=O)-CH3

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于通过以下的方法进行高压研磨:将所述预分散体分为至少两份子流体,将子流体加压并通过各喷嘴向同一碰撞点释放。

6.分散体,其通过根据权利要求1至5中任一项所述的方法得到。

7.经表面改性的二氧化硅颗粒的粒料的制备方法,其中分离出根据权利要求6所述的分散体的液相。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于使用BET表面积为40-200m2/g,且甲醇润湿度为30-40的经表面改性的二氧化硅颗粒,所述经表面改性的二氧化硅颗粒通过热解法制备的二氧化硅颗粒与二甲基二氯硅烷的反应得到。

9.经表面改性的二氧化硅颗粒的粒料,其通过根据权利要求7或8所述的方法得到。

10.根据权利要求6所述的分散体或根据权利要求9所述的粒料在耐刮擦透明涂层中的用途。

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