[发明专利]无机纳粒、其制备及用途有效

专利信息
申请号: 200980121103.0 申请日: 2009-06-04
公开(公告)号: CN102056628A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 劳伦特·莱维;阿格尼丝·波迪艾尔;安娜贝尔·洛伊特;朱莉·马里尔;科琳·德沃;马蒂厄·杰曼 申请(专利权)人: 纳米生物技术公司
主分类号: A61K41/00 分类号: A61K41/00;A61P35/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张颖;樊卫民
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 无机 制备 用途
【权利要求书】:

1.纳粒或纳粒聚集体在制备目的是在动物中的靶细胞暴露于电离辐射时改变或破坏所述靶细胞的药物组合物中的应用,其中纳粒由氧化物(MxOy)制成,所述氧化物的密度为至少7g/cm3,并且其中纳粒或纳粒聚集体覆盖有生物相容性涂层,以提供生理流体中在pH 6.5到7.5之间的纳粒稳定性。

2.权利要求1的应用,其中氧化物选自CeO2、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、HfO2、TaO2、Ta2O5、WO2、WO3、ReO2、OsO2、IrO2、PtO、PtO2、HgO、Hg2O、Tl2O3、PbO、Pb2O3、Pb3O4、PbO2、PoO2、Bi2O3、NbO、RuO2、Rh2O3、RhO2、PdO、Ag2O、AgO、CdO、In2O3

3.权利要求2的应用,其中氧化物是HfO2

4.权利要求1到3任一项的应用,其中纳粒或纳粒聚集体的尺寸在约10到200nm之间。

5.权利要求1到4任一项的应用,其中所述电离辐射选自X-射线、γ-射线、电子束和放射性同位素发射。

6.权利要求1到5任一项的应用,其中电离辐射为约2KeV到约25000KeV。

7.权利要求6的应用,其中电离辐射为约2KeV到6000KeV。

8.权利要求6的应用,其中电离辐射为约2KeV到1500KeV。

9.权利要求1到8任一项的应用,其中纳粒由有效原子序数(Zeff)为至少50的无机材料制成。

10.权利要求1到9任一项的应用,其中纳粒的形状基本上为球形。

11.权利要求1到10任一项的应用,其中靶细胞选自良性细胞、恶变前细胞和恶性细胞。

12.权利要求11的应用,其中所述恶性细胞是来自肿瘤的细胞,所述肿瘤选自血液肿瘤和实体肿瘤。

13.权利要求1到12任一项的应用,其中药物组合物还包含与纳粒或纳粒聚集体不同的、目的是治疗癌症的附加治疗化合物。

14.权利要求1到13任一项的应用,其中所述动物是人类。

15.目的是在哺乳动物中的靶细胞暴露于电离辐射时改变或破坏所述靶细胞的药物组合物,所述药物组合物包含纳粒或纳粒聚集体以及可药用赋形剂,其中纳粒由氧化物(MxOy)制成,所述氧化物的密度为至少7g/cm3,并且纳粒或纳粒聚集体覆盖有生物相容性涂层,以提供生理流体中在pH 6.5到7.5之间的纳粒稳定性。

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