[发明专利]液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，是含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂的放射线敏感性树脂组合物，所述(A)树脂成分在将该(A)树脂成分整体设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。

2.如权利要求1所述的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其中，所述含酸离解性基团树脂(A1)含有下述通式(1)表示的重复单元作为所述重复单元(a1)，

通式(1)中，n表示1～3的整数，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，R²表示单键、或者碳原子数1～10的(n+1)价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，R³表示单键、或者碳原子数1～20的2价直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，X表示氟原子取代的亚甲基、或者碳原子数2～20的直链状或支链状的氟代亚烷基，Y表示单键或-CO-，n为1时，R⁴表示酸离解性基团，n为2或3时，R⁴相互独立地表示氢原子或酸离解性基团、且至少一个R⁴为酸离解性基团。

3.如权利要求2所述的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其中，所述含酸离解性基团树脂(A1)含有下述通式(1-1)表示的重复单元作为所述通式(1)表示的重复单元，

通式(1-1)中，n表示1～3的整数，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，R³表示单键、或者碳原子数1～20的2价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，X表示氟原子取代的亚甲基、或者碳原子数2～20的直链状或支链状的氟代亚烷基，n为1时，R⁴表示酸离解性基团，n为2或3时，R⁴相互独立地表示氢原子或酸离解性基团、且至少一个R⁴为酸离解性基团，R⁵表示碳原子数3～10的(n+1)价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基。

4.如权利要求2或3所述的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其中，所述含酸离解性基团树脂(A1)含有下述通式(1-2)表示的重复单元作为所述通式(1)表示的重复单元，

通式(1-2)中，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，R⁶表示单键、或者碳原子数1～20的2价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，X表示氟原子取代的亚甲基、或者碳原子数2～20的直链状或支链状的氟代亚烷基，R⁷表示酸离解性基团。

5.如权利要求2～4中任一项所述的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其中，所述含酸离解性基团树脂(A1)含有下述通式(1-3)表示的重复单元作为所述通式(1)表示的重复单元，

通式(1-3)中，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，R⁶表示单键、或者碳原子数1～20的2价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，X表示氟原子取代的亚甲基、或者碳原子数2～20的直链状或支链状的氟代亚烷基，R⁷表示酸离解性基团。

6.一种抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，具有以下工序：

(1)使用权利要求1～5中任一项所述的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成光致抗蚀剂膜的工序、

(2)将所述光致抗蚀剂膜进行液浸曝光的工序、和

(3)将液浸曝光过的光致抗蚀剂膜显影、形成抗蚀剂图案的工序。

7.一种聚合物，其特征在于，含有下述通式(1)表示的重复单元和具有内酯骨架的重复单元，

通式(1)中，n表示1～3的整数，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，R²表示单键、或者碳原子数1～10的(n+1)价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，R³表示单键、或者碳原子数1～20的2价的直链状、支链状或环状的饱和或不饱和烃基，X表示氟原子取代的亚甲基、或者碳原子数2～20的直链状或支链状的氟代亚烷基，Y表示单键或-CO-，n为1时，R⁴表示酸离解性基团，n为2或3时，R⁴相互独立地表示氢原子或酸离解性基团、且至少一个R⁴为酸离解性基团。