[发明专利]磁记录介质及磁记录再生装置、磁记录介质的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于硬盘装置等的磁记录介质及磁记录再生装置。

本申请基于2008年5月1日在日本申请的特开2008-119769号主张优先权，在此引用其内容。

背景技术

最近，磁盘装置、软盘装置、磁带装置等磁记录装置的应用范围显著扩大，其重要性增加的同时，对于这些装置所使用的磁记录介质，谋求显著提高其记录(存储)密度。特别是，MR(磁阻)头和PRML技术引入以来，面记录密度的上升更为激烈，近年来还导入了GMR头、TMR头等，面记录密度的上升以一年大约100％的速度持续增加。对于这些磁记录介质，要求今后实现更高的记录密度，为此要求实现磁性层的高顽磁力化和高信噪比(SNR)、高分辨率。另外，近年来也在继续努力通过在提高线记录密度的同时增加磁道(track)密度来使面记录密度上升。

在最新的磁记录装置中，磁道密度达到110kTPI。但是，当磁道密度上升下去时，相邻的磁道间的磁记录信息会相互干扰，其边界区域的磁化过渡区域会成为噪声源，容易产生损害SNR的问题。就这样的话会牵涉到误码率(Bit Error rate，位出错率)的下降，因此对于提高记录密度成为障碍。为了使面记录密度上升，需要将磁记录介质上的各记录位(bit)的尺寸设为更细微的尺寸，需要在各记录位确保尽可能大的饱和磁化和磁性膜厚。但是，当将记录位细微化下去时，则每一位的磁化最小体积变小，会产生由于由热波动导致的磁化反转而使记录数据消失的问题。

另外，当提高磁道密度时，由于磁道间距离接近，因此对于磁记录装置要求精度极高的磁道伺服技术。另外，为了尽可能地排除来自相邻磁道的影响，一般使用如下方法：宽幅地执行记录，比记录时窄地执行再生(reproducing)。该方法虽然能够将磁道间的影响抑制为最小限度，但是难以获得足够的再生输出。因此，存在难以确保足够的SN比(SNR)的问题。

作为解决上述的热波动的问题、实现确保足够的SN比或者确保足够的输出的方法之一，进行了如下尝试：在记录介质表面形成沿着磁道的凹凸，使记录磁道彼此物理分离或者磁分离，由此提高磁道密度。以下将这样的技术称为离散磁道法，将通过该方法制造的磁记录介质称为离散磁道介质。

作为离散磁道介质的一个例子，已知如下磁记录介质：在具有多个凸部和包围各凸部的凹部的非磁性基板上，层叠软磁性层和强磁性层，在软磁性层和强磁性层形成反映了非磁性基板的形状的凹凸，仅将磁分开后的强磁性层的凸部作为记录区域(例如，参考专利文献1)。

根据该磁记录介质，能够抑制软磁性层中产生磁畴壁，因此不容易出现热波动的影响，也没有相邻的信号之间的干扰，所以认为能够形成噪声少的高密度磁记录介质。

作为离散磁道介质的制造方法，具有如下方法：在形成了由几层薄膜形成的磁记录介质之后形成磁道的方法；在预先在基板表面直接形成凹凸图案或者在用于形成磁道的薄膜层形成凹凸图案之后，进行磁记录介质的薄膜形成的方法(例如，参考专利文献2、专利文献3)。其中，前者的方法常被称为磁层加工型。另一方面，后者常被称为压花(emboss)加工型。

作为离散方式或位图案(bit pattern)方式的磁记录介质的制造方法，一般形成了在表面具有凹凸形状的磁性层之后，在其凹部填充非磁性材料，使表面平滑。当磁记录介质的表面平滑时，磁头的浮起特性的稳定性优异，因此是优选的。但是，在通过该方法制造磁记录介质的情况下，当在凹部填充非磁性材料来进行平滑化时，使磁记录介质的表面污染的可能性较高。另外，当凹部填充非磁性材料时，制造工序变复杂、费事，会牵涉到磁记录介质的成本增加。

另外，作为离散方式的磁记录介质的制造方法，也有如下方法：通过从外部进行离子注入或者激光照射等，将非磁性基体上的连续的磁性层的所期望的部位的磁特性进行局部改变，形成记录磁道(例如，参考专利文献4)。在采用了该方法的情况下，不进行非磁性材料的填充也能够形成记录磁道，因此磁记录介质的表面平滑。

另外，作为形成了磁头的停放区(landing zone)的离散磁道介质，公开了包括形成了如下图案的数据区和位于最外周且没有形成所述图案的磁头的停放区的磁记录介质，所述图案是作为通过沟分离了的记录磁道使用的图案(例如，参考专利文献5)。根据专利文献5所记载的技术，由于磁头滑块(head slider)的停放区为没有图案的凹凸的区域，因此，能够改善磁头滑块的浮起稳定性。