[发明专利]剥离膜及层叠体有效
申请号: | 200980109524.1 | 申请日: | 2009-03-24 |
公开(公告)号: | CN101977764A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 吉原俊昭;岩田贤;西原嗣贵;张国臻 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | B32B27/00 | 分类号: | B32B27/00;B32B7/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;金世煜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 剥离 层叠 | ||
技术领域
本发明涉及一种在膜基材的至少一方的面上依次具备锚定层、剥离层的剥离膜,更具体来说,涉及液晶偏振片、等离子体显示器面板(PDP)、有机EL等显示构件用的剥离膜或贴附型外用药等医疗用的剥离膜。
背景技术
以往,在膜基材的至少一方的表面设有剥离层的剥离膜被作为陶瓷生片等工程用膜、粘附标签、粘附膜、液晶偏振片、PDP、有机EL等带有粘附性的光学显示构成构件的隔离膜、贴附型外用药等医疗用膜的隔离膜广泛地使用。具有在塑料膜的至少一面涂布形成有由硅酮树脂构成的剥离层的结构。
专利文献1:日本特开平11-3008897号公报
专利文献2:日本特开平9-156060号公报
专利文献3:日本特开平7-3215号公报
专利文献4:日本特开平9-156060号公报
近年来,伴随着液晶显示器等的大型化和高精细化,对异物、外观特性的要求品质变得更为严格,在带有粘附性的偏振片、相位差膜等光学构件的保护膜中使用剥离片的情况下,要求在剥离膜上异物少,或没有异物。在光学构件上存在异物的情况下,有时会产生显示不良。
另外,对于在贴附型外用药等医疗用的片上贴合剥离膜的情况,同样地也要求在剥离膜上异物少,或没有异物。此外,在粘附标签、粘附膜等的粘附层上贴合剥离膜的情况下,也要求在剥离膜上异物少,或没有异物。
剥离膜的异物、缺陷检查是在基材上涂布剥离层后使之加热硬化的工序之后,作为借助使用了照相机等的图像分析的检查装置的异物检查或检查员的目视检查来进行的,在线地或离线地实施。另外,根据情况不同,有时也在剥离膜贴附在产品上的状态下受到检查。
在该检查中,有时会产生用检查装置进行异物检查时无法正常地检查的问题。另外,在人的目视检查的情况下,有时会产生检查员发生检查迷醉、因眼睛容易疲劳而使作业效率降低等问题。
另外,在剥离膜中,有时在透明基材的相反一面或基材与剥离层之间设置印刷层,以赋予显示性或设计性(意匠性),特别是医疗用膜的情况下,有时为了显示药品名或注意事项、商品标志等而设置印刷层。此时,会有产生难以读出显示且设计性也明显降低的问题的情况。
另外,在剥离膜中,为了提高膜基材与剥离层的密合性而设置锚定层。通过设置锚定层,可以赋予制造后的长期保管稳定性。特别是,在医疗用途中使用剥离膜的情况下,为了还抑制由医药成分等造成的经时劣化,优选在剥离层与基材之间设置锚定层。
但是,在剥离膜中设置锚定层的情况下,与在膜基材中不设置锚定层而直接设置剥离层的剥离膜相比,会有异物缺陷检查变得更难的情况。另外,在剥离膜中设置锚定层的情况下,与在膜基材中不设置锚定层而直接设置剥离层的剥离膜相比,会有设置印刷层时的剥离膜的设计性进一步降低的情况。
发明内容
所以,本发明中,目的在于,提供一种剥离膜,是在膜基材的至少一面形成了剥离层的剥离膜,在体现出剥离膜的剥离特性的同时,长期保管稳定性优异,异物缺陷检查容易,并且在设置印刷层的情况下设计性也很优异。
本发明人等发现,在依次具备膜基材和剥离层的剥离膜中,通过在膜基材与剥离层之间设置锚定层,可以提高剥离层与基材膜的密合性而形成长期保管稳定性优异的剥离膜,此外,在膜基材上依次具备锚定层和剥离层的膜膜表面中,在可以看到强烈的反射光的情况下或反射光具有色感的情况下,另外,在反射光具有颜色不均的情况下,异物检查变得困难,此外设计性降低,从而解决了上述问题。
为了解决上述问题,作为技术方案1的发明,提供一种剥离膜,是在膜基材的至少一面依次具备锚定涂覆层、剥离层的剥离膜,其特征在于,具备上述剥离层的一侧的剥离膜表面的视觉平均反射率为0.5%~2.5%,并且具备上述剥离层的一侧的剥离膜表面的分光反射率曲线在波长400nm~800nm的范围内不具有极大值,而具有1个极小值,并且具备上述剥离层的一侧的剥离膜的L*a*b*色度体系中的反射色调满足-8≤a*≤8、-16≤b*≤8两式。
另外,作为技术方案2的发明,是具有如下特征的技术方案1所述的剥离膜,即,上述剥离层的折射率小于上述膜基材的折射率,上述剥离层的折射率与上述膜基材的折射率差为0.04~0.27的范围内,并且上述剥离层的光学膜厚为113nm~225nm的范围内,并且上述锚定涂覆层的光学膜厚为5nm~45nm的范围内。
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