[实用新型]腐蚀腔装置及气相腐蚀设备

权利要求书

1.一种气相腐蚀设备，其特征在于，该气相腐蚀设备包括一腐蚀气体产生装置和一腐蚀腔装置，该腐蚀气体产生装置将其产生的氮气和氢氟酸的混合气体输入到该腐蚀腔装置；该腐蚀腔装置包括一腔体、一上盖、至少一进气端、至少一排气端和至少一用于承载硅片的承载装置，该上盖位于该腔体的顶部，该承载装置位于该腔体的底部，该进气端和该排气端分别位于该腔体的两端，该进气端与该腐蚀气体产生装置相连。

2.如权利要求1所述的气相腐蚀设备，其特征在于，该气相腐蚀设备进一步包括一与该腐蚀腔装置的排气端相连的尾气收集装置，该尾气收集装置对该腐蚀腔装置生成附产物尾气以及部分氮气和氢氟酸的混合气体进行回收处理。

3.如权利要求2所述的气相腐蚀设备，其特征在于，该气相腐蚀设备进一步包括一氮气输入装置，该氮气输入装置将氮气输入到该腐蚀气体生成装置。

4.如权利要求1或3所述的气相腐蚀设备，其特征在于，该气相腐蚀设备进一步包括一PLC控制装置，该氮气输入装置和该承载装置在该PLC控制装置控制下工作。

5.如权利要求1所述的气相腐蚀设备，其特征在于，该腐蚀气体产生装置包括一液体容器、一进气管和一出气管，该液体容器内装载氢氟酸溶液，该进气管和该出气管都穿过该液体容器的顶部，该进气管的一端接收外部输入的氮气，该进气管的另一端延伸到该装载氢氟酸溶液的液体容器的底部，该出气管的一端延伸到该液体容器内且邻近该液体容器的顶部，并且其未接触该液体容器内的氢氟酸溶液，该出气管的另一端与该腐蚀腔装置的进气端相连。

6.如权利要求1所述的气相腐蚀设备，其特征在于，所述的腐蚀气体产生装置包括一液体容器、一液体回收容器、一第一进气管、一第二进气管、一第一出气管和一第二出气管，该液体容器内装载氢氟酸溶液，该液体回收容器装载有空气，该第一进气管和该第一出气管都穿过该液体容器的顶部，该第二进气管和该第二出气管都穿过该液体回收容器的顶部，该第一进气管的一端与该氮气输入装置的气体容器端口相连，该第一进气管的另一端延伸到该装载氢氟酸溶液的液体容器的底部，该第一出气管的一端延伸到该液体容器内且邻近该液体容器的顶部，并且该第一出气管的一端未接触该液体容器内的氢氟酸溶液，另一端与该第二进气管相连，该第二出气管与该腐蚀腔装置的进气端相连。

7.如权利要求1所述的气相腐蚀设备，其特征在于，该承载装置包括一载片盘、一旋转轴和一动力装置，该载片盘位于该腔体内的底部，该旋转轴的一端穿过该腔体与该载片盘的底部固定连接，另一端与该动力装置传动连接，该动力装置位于该承载装置的底部，该动力装置驱动该旋转轴转动，使得该载片盘在该旋转轴带动下进行转动。

8.一种腐蚀腔装置，其特征在于，该腐蚀腔装置包括一腔体、上盖、至少一进气端、至少一排气端和至少一用于承载硅片的承载装置，该上盖位于该腔体的顶部，该承载装置位于该腔体的底部，该进气端和该排气端分别位于该腔体的两端。

9.如权利要求8所述的腐蚀腔装置，其特征在于，该承载装置包括一载片盘、一旋转轴和一动力装置，该载片盘位于该腔体内的底部，该旋转轴的一端穿过该腔体与该载片盘的底部固定连接，另一端与该动力装置传动连接，该动力装置位于该承载装置的底部，该动力装置驱动该旋转轴转动，使得该载片盘在该旋转轴带动下进行转动。

10.如权利要求9所述的腐蚀腔装置，其特征在于，该腐蚀腔装置用来收容装载有硅片的外部装载架，并使得该装载架固定在该承载装置的载片盘上。