[实用新型]一种触摸屏、触摸系统及光源

说明书

技术领域

本实用新型涉及光电检测技术，尤其涉及一种触摸屏、触摸系统及光源。

背景技术

现有技术中，使用光电技术进行触摸点检测的触摸屏主要有两种：一种是使用红外发射和接收管阵列构成红外线扫描网格的红外触摸屏；另一种是使用摄像头等光学传感单元作为检测元件的光学触摸屏。

其中，在上述光学触摸屏中需要提供光源，以为所述光学传感单元提供检测光线。所述光源发出的光线分布于触摸面板的触摸检测区上，光学传感单元用以获取发生于所述触摸检测区上的触摸数据。

随着材料的改良及其在应用上的进步，各种不同形态的光源也伴随着不同的需求而被开发、改良，大体上都是向节省能源、增进亮度的方向前进。

然而，实践中发现，尽管在进行光源改良后，包含所述光源的触摸屏在绝大多数工作条件下运行良好，但是，在光学传感单元(如摄像头)的帧频较高时，检测环境的些许变化都可能影响到所述光学传感单元对触摸的判断，换言之，在光学传感单元的帧频较高时，检测结果的可靠性较差。因此，当前，业界普遍致力于如何改善检测环境的稳定性，具体地，如，如何增强光源照射的均匀性。

但是，实践中发现，应用现有的技术方案增强光线均匀性时，实际效果仍然有待改善，业界需要一种新的可增强光线均匀性的技术方案。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供了一种触摸屏，利于增强分布于其内触摸检测区上的光线的均匀性；本实用新型提供了一种触摸系统，利于增强分布于其内触摸屏中触摸检测区上的光线的均匀性；本实用新型提供了一种光源，利于增强由其发出的光线的均匀性。

本实用新型提供的一种触摸屏，包括光源、触摸检测区、光学传感单元和控制单元，所述光源置于所述触摸检测区的至少一个侧边，所述光学传感单元用以获取发生于所述触摸检测区上的触摸数据，所述控制单元耦 接于所述光学传感单元并利用从所述光学传感单元获取的所述触摸数据确定触摸位置；所述光源包括发光体、导光体和反射单元，所述发光体置于所述导光体的端口，所述反射单元形成于所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面处，所述发光体发出的光线射入所述导光体并在所述导光体内传输，在所述导光体内传输的部分光线经由所述反射单元反射后分布于所述触摸检测区。

可选地，所述反射单元为反射板，所述反射板与所述导光体分立或附着于所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面，所述反射板中面向所述导光体的侧面形成有反射面；或

所述反射单元为反射膜，所述反射膜附着或形成于所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面。

可选地，当所述反射单元为反射膜时，所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面包括至少两个斜面组，各所述斜面组包括具有夹角的两斜面，各所述斜面组连续排列；

相邻的所述斜面组具有相同的夹角，或者，所述斜面组沿所述导光体的纵切面方向时，各所述斜面组的夹角由所述导光体的端口至中心逐渐减小，所述斜面组沿所述导光体的横切面方向时，各所述斜面组的夹角由所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面的两边至中心逐渐减小，且平行于各所述斜面的直线也平行于所述触摸检测区；

可选地，各所述斜面组等高；或者，所述斜面组沿所述导光体的纵切面方向时，各所述斜面组的高度由所述导光体及/或所述反射板的端口至中心逐渐增大，所述斜面组沿所述导光体的横切面方向时，各所述斜面组的高度由所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面及/或所述反射面的两边至中心逐渐增大。

可选地，当所述反射单元为反射膜时，所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面包括至少两个弧面，各所述弧面连续排列；

相邻的所述弧面具有相同的弧长和弧度，或者，各所述弧面沿所述导光体的纵切面方向时，具有相同弧长的各所述弧面的弧度由所述导光体的端口至中心逐渐增大，具有相同弧度的各所述弧面的弧长由所述导光体的端口至中心逐渐减小，各所述弧面沿所述导光体的横切面方向时，具有相同弧长的各所述弧面的弧度由所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面的两边至中心逐渐增大；具有相同弧度的各所述弧面的弧长由所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面的两边至中心逐渐减小，且平行于各所述弧面 中心轴的直线也平行于所述触摸检测区；

可选地，当所述反射单元为反射膜时，所述导光体内远离所述触摸检测区的侧面包括至少两个矩形断面，各所述矩形断面连续排列；