[实用新型]晶圆背磨机的旋转磨削吸盘调节机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种调节技术，特别是涉及一种应用于晶圆背磨机的旋转磨削吸盘的调节机构。

背景技术

随着电子信息产业的快速发展，集成电路(integratedcircuit，IC)的运用已经无处不在，因而作为集成电路的原材料，晶圆制造加工业的发展也日趋发展。集成电路作为极为精密的器件，在各个生产环节中对精准度的要求都不容忽视。晶圆制造过程中的每一个步骤，包括蚀刻、氧化、沉积、去光阻、以及化学机械磨削等，其中在机械磨削过程中对晶圆的磨削精度有着极为严格的要求和限制。

为了薄化半导体封装件通常会对晶圆的背面实施磨削，而完成该项制程的就是业内俗称的晶圆背磨机。所述的晶圆背磨机通常包括可旋转的工作台面、多个设置在该工作台面上并可转动的旋转磨削吸盘、以及悬设于该工作台面上方的磨头等部件。对晶圆进行磨削时，是先将晶圆放置在其中的一个旋转磨削吸盘(chuck)上，由高速旋转的磨头对晶圆进行磨削作业，待完成磨削后，该工作台面则转动一定角度，将晶圆送入下一环节(例如精磨削或者清洗环节)。在现有技术中，为确保对晶圆的磨削精度，必须保证该旋转磨削吸盘的高精度，因此就需要在磨削作业前对该旋转磨削吸盘进行水平检测及调整。

在现有技术中，所述旋转磨削吸盘是由几个分布于其周缘的固定螺丝锁固在工作台面上，在调整该旋转磨削吸盘的水平度时也是通过将所述几个分布于其周缘的固定螺丝旋进旋出以达到调节的目的，然，由于所述旋转磨削吸盘大多是微观倾斜，人工进行调整并不容易精确到位；而且，紧固时如有微小倾斜会造成被紧固件之间的线接触或点接触，如此势必会很容易造成旋转磨削吸盘再度倾斜；再者，既要让固定螺丝起到固定旋转磨削吸盘的作用，又要兼顾对旋转磨削吸盘的调节，实难达到所需的理想状态。

所以，如何提供一种磨削吸盘的调节机构，以避免以上所述的缺点，实为相关领域之业者目前亟待解决的问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种晶圆背磨机的旋转磨削吸盘调节机构，以实现对旋转磨削吸盘的精确调节，且易于操作。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种晶圆背磨机的旋转磨削吸盘调节机构，包括可转动台面、设置于所述可转动台面上的法兰，且所述法兰周缘具有至少三个均匀分布的第一螺孔，所述可转动台面具有对应所述第一螺孔的第二螺孔，其特征在于，所述调节机构还包括：微调空心螺丝、空心螺帽、球面垫座、球面垫圈、以及紧固螺栓。其中，所述微调空心螺丝旋设于所述第一螺孔，并具有对应所述第一螺孔的外螺纹，所述微调空心螺丝顶端具有卡槽；所述空心螺帽的底端具有对应卡合至所述卡槽的卡块，中部具有挡止部以及顶端具有操作部；所述球面垫座位于所述微调空心螺丝与所述可转动台面之间，且所述球面垫座底面为平面；所述球面垫圈位于所述微调空心螺丝与所述球面垫座之间，所述球面垫圈容置于所述球面垫座中；具体地，所述球面垫座具有凹形球面，所述球面垫圈与所述球面垫座的凹形球面相吻合；所述紧固螺栓依次穿过所述空心螺帽、微调空心螺丝、球面垫圈及球面垫座锁固于所述第二螺孔。

于本实用新型的晶圆背磨机的旋转磨削吸盘调节机构中，所述空心螺帽的挡止部的直径大于所述第一螺孔的孔径，以使所述空心螺帽被旋动时不致于落入所述第一螺孔中；所述空心螺帽的操作部呈六角螺帽结构；所述微调空心螺丝的底端抵靠于所述球面垫圈上；连通所述第一螺孔的底端具有容置沉孔，用于容置所述球面垫圈及球面垫座。

如上所述，本实用新型的晶圆背磨机的旋转磨削吸盘调节机构，主要是由微调空心螺丝、空心螺帽、球面垫座、球面垫圈、以及紧固螺栓相互配合，其中，藉由所述微调空心螺丝、空心螺帽、球面垫座以及球面垫圈用于对法兰进行微调，所述紧固螺栓用于最后固定，与现有技术相比，微调元件和锁固元件之间相互独立，且由于本实用新型采用了球面垫座及球面垫圈不但使得调节容易操作，而且还解决了现有技术中螺栓与工作台的线接触或点接触而引起的调节不理想或调节后稳定性差等问题，即有效克服了现有技术中的种种缺点。

附图说明

图1显示为本实用新型的调节机构的立体分解示意图。

图2显示为本实用新型的调节机构的剖面分解示意图。

图3显示为本实用新型的调节机构的结合示意图。

图4显示为本实用新型的旋转磨削吸盘与可转动台面的分解示意图。

图5显示为本实用新型的旋转磨削吸盘的分布示意图。

元件标号的简单说明：

1      可转动台面

11     第二螺孔

2      中心转轴