[实用新型]具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体有效

专利信息
申请号: 200920173291.9 申请日: 2009-08-27
公开(公告)号: CN201481593U 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 李晓峰;姜谦;刘灿;武星 申请(专利权)人: 北京吉马飞科技发展有限公司
主分类号: A61F2/28 分类号: A61F2/28;A61L27/06
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 吴小灿
地址: 100085 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 具有 中空 结构 贴合 颅颌面 植入
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及临床医学颅颌面修复手术中使用的植入结构体物件,特别是一种具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体。所述颅颌面植入体是颅颌面修复体或颅颌面填充体。所述颅颌面修复体能够同时满足骨缺损修复和形态修复的需要,主要针对创伤和肿瘤患者。所述颅颌面填充体能够单纯满足形态修复需要,主要针对纯整形美容患者。

背景技术

临床医学颅颌面骨修复,最常用的修复手段就是使用各种型号的微型接骨板及钛网。对于颅骨缺损,使用常规钛网修复一般也可满足临床基本要求,只是形态及强度上比较差;对于简单的颌面部骨折,使用微型接骨板或重建钛板等修复可满足临床基本需求;对于一些先天或后天造成的颅颌面部骨发育不良或骨塌陷等严重影响面部形态的案例以及复杂的大面积颌面部骨缺损或粉碎性骨折,上述两种方法则完全达不到临床所需。因此具有这些特殊修复功能的修复体为目前临床极其需要的。本实用新型中涉及的颅颌面部修复体及填充体即可满足上述第三种案例的需求,实现颅颌面骨的修复或整形。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中存在的缺陷或不足,提供一种具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体。所述颅颌面植入体是颅颌面修复体或颅颌面填充体。所述颅颌面修复体能够同时满足骨缺损修复和形态修复的需要,主要针对创伤和肿瘤患者。所述颅颌面填充体能够单纯满足形态修复需要,主要针对纯整形美容患者。所述颅颌面植入体能够适用先天或后天造成的颅颌面部骨发育不良或骨塌陷等严重影响面部形态的情形以及复杂的大面积颌面部骨缺损或粉碎性骨折等情形。

本实用新型的技术方案如下:

具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体,其特征在于,包括植入体本体,所述植入体本体的外侧是形态修复面,所述植入体本体的内侧分布有中空减重结构槽,槽与槽之间的槽梗表面是骨面贴合面;所述植入体本体分布有沉孔阵列结构。

所述植入体本体分布有通孔阵列结构。

所述沉孔阵列结构中的沉孔直径范围为1.0mm~5.0mm,所述通孔阵列结构中的通孔直径范围为1.0mm~5.0mm。

所述中空减重结构槽的槽宽为2~15mm,槽深为1~20mm,槽梗宽为1~3mm。

所述植入体本体采用永久性植入颅颌面骨修复的金属或非金属材料。

所述植入体本体采用满足13810标准的外科植入物用纯钛或钛合金材料,或者采用满足ISO或ASTM标准的六铝七铌钛合金材料。

所述颅颌面植入体是颅颌面修复体或颅颌面填充体。

所述具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体的制造方法,其特征在于包括以下步骤:

A.采集患者包括颅颌面区域的CT或MRI图像,获取DICOM格式的图像数据;

B.利用所述DICOM格式的图像数据结合三维重建软件进行三维重建,然后在重建图像的基础上进行颅颌面植入体的设计;

C.所述颅颌面植入体的设计要求内表面要和所重叠的骨面贴合,外表面要符合修复所需的形态;

D.根据所述颅颌面植入体的设计完成的数据转换为可加工数据,然后采用数控中心或数控铣床进行数字化加工,加工出颅颌面植入体的雏形;

E.对颅颌面植入体进行后期加工处理,其中包括打孔,打磨工序,以及中空减重结构槽的加工。

医学中的CT全称:computed tomography,CT是一种功能齐全的病情探测仪器,它是电子计算机X射线断层扫描技术简称。

MRI是Magnetic Resnane Iamging的简称,中文为磁共振成像。cad-Computer Aided Design的缩写,即计算机辅助设计。

DICOM是Digital Imaging and Communications in Medicine的英文缩写,即医学数字成像和通信标准。在DICOM标准中详细定义了影像及其相关信息的组成格式和交换方法,利用这个标准,人们可以在影像设备上建立一个接口来完成影像数据的输入/输出工作。

本实用新型的技术效果如下:

本实用新型的具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体,能够适用先天或后天造成的颅颌面部骨发育不良或骨塌陷等严重影响面部形态的情形以及复杂的大面积颌面部骨缺损或粉碎性骨折等情形,从而满足临床医学颅颌面修复手术的需求。

附图说明

图1是本实用新型具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体的结构示意图。

图2是本实用新型具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体的另一结构示意图。

图3是本实用新型具有中空结构及贴合结构的颅颌面植入体的使用状态图。

附图标记列示如下:

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