[实用新型]一种基于双频干涉原理的直线度及其位置的测量装置无效

专利信息
申请号: 200920123265.5 申请日: 2009-06-22
公开(公告)号: CN201413130Y 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 陈本永;张恩政;严利平;杨涛;周砚江 申请(专利权)人: 浙江理工大学
主分类号: G01B11/26 分类号: G01B11/26;G01B11/00;G01B11/02
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 林怀禹
地址: 310018浙江省杭州市江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 双频 干涉 原理 直线 及其 位置 测量 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及以采用光学方法为特征的测量装置,尤其是涉及一种基于双频干涉原理的直线度及其位置的测量装置。

背景技术

纵观国内外直线度的测量方法,按照有无直线基准,可将直线度的测量方法大致分为两类:第一类是无直线基准的测量方法,主要采用误差分离法,而按照信息获取的途径不同,无直线基准测量法又可分为反向法、错位法和多测头法,误差分离法实用可靠,适用于在线或离线测量,一次测量可获得多项测量误差,但该方法受多种因素的影响,如测量装置结构参数选择不当、测头间距误差、传感器标定误差等,使测量准确度下降。第二类是有直线基准的测量方法,该方法采用一定的直线基准,并以此基准来检测被测表面的直线度误差,主要有:光隙法、节距法、测微仪法、三坐标法、平晶干涉法、激光准直法、激光全息法和双频激光干涉法等。以上这些测量方法中,基于双频激光干涉的直线度测量方法具有纳米级高测量精度的优点,但是其仅是实现了直线度的单独测量,存在没有给出被测直线度的具体位置的技术问题。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种基于双频干涉原理的直线度及其位置的测量装置。采用激光外差干涉原理,既实现了纳米级精度的直线度测量,又实现了被测直线度位置的纳米级位移测量,解决了纳米级高精度的直线度及其位置同时测量的技术问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

光源为横向塞曼效应He-Ne双频激光器发出的激光束经普通分光镜分成两束,第一反射光束入射至第一检偏器,被第一光电探测器接收作为参考信号,第一透射光束经消偏振分光棱镜再次分为第二反射光束和第二透射光束,第二反射光束入射到偏振分光棱镜,第二透射光束经渥拉斯顿棱镜透射后将f1和f2两个频率的光分成两路测量光束,射向由直角棱镜组成的测量反射镜,测量反射镜放置于被测对象上,测量反射镜在被测对象上移动时,产生含有多普勒频差±Δf1和±Δf2的两测量光束f1±Δf1和f2±Δf2,经测量反射镜反射后至渥拉斯顿棱镜的另一点汇合成一束光,再次透过渥拉斯顿棱镜后射向偏振分光棱镜,其中,频率为f1±Δf1的光透射偏振分光棱镜与第二反射光束中经偏振分光棱镜反射的频率为f2的光形成第一路测量光束,频率为f2±Δf2的光经偏振分光棱镜反射后与第二反射光束中经偏振分光棱镜透射的频率为f1的光形成第二路测量光束;第一路测量光束入射至第二检偏器,检偏器的透振方向与第一路测量光束的两正交线偏振光成45°角,将两正交的线偏振光分解到同一透振方向上,形成拍频,被第二光电探测器接收形成第一路测量信号,其频率为f1-f2±Δf1;第二路测量光束入射第三检偏器,检偏器的透振方向与第二路测量光束的两正交线偏振光成45°角,将两正交的线偏振光分解到同一透振方向上,形成拍频,被第三光电探测器接收形成第二路测量信号,其频率为f1-f2±Δf2,第一路测量信号、第二路测量信号和参考信号经后续的数据采集和机算机进行处理和显示,得到测量的直线度及其位置。

本实用新型具有的有益效果是:

(1)基于双频干涉原理的直线度及其位置的测量方法在测量直线度的同时,可以定位直线度的绝对位置,实现了直线度及其位置的同时测量,这极大的方便了实际中的应用。

(2)该测量方法采用了激光外差干涉方法,具有纳米级测量精度。

(3)采用共光路结构,有利于消除环境因素的影响。

(4)光路结构简单,使用方便。

本实用新型主要适用于超精密加工技术、微光机电系统、集成电路芯片制造技术等领域所涉及的精密工作台的运动位移测量、精密导轨的直线度检测等。

附图说明

图1是基于双频干涉原理的直线度及其位置的测量装置的光路图。

图2是基于双频干涉原理的直线度及其位置的测量方法的示意图。

图中:1、双频激光器,2、普通分光镜,3、第一检偏器,4、第一光电探测器,5、消偏振分光棱镜,6、渥拉斯顿棱镜,7、测量反射镜,8、偏振分光棱镜,9、第二检偏器,10、第二光电探测器,11、第三检偏器,12、第三光电探测器,13、被测对象。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江理工大学,未经浙江理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920123265.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top