[实用新型]用纳米级雾状化学剂处理基片的系统

权利要求书

1.一种用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，包括基片清洗容器，其具有顶盖和容器本体，该容器本体内部中间设有基片承载部分；该容器本体的侧面上部设有一组可使雾状化学剂、去离子水和氮气流入容器的阀门；容器本体底部设有一组通风和排水阀门；其特征在于，所述容器基片承载部分包括可旋转的基片承载盘和布置在所述基片承载盘上的周边部分、用于压紧所述单基片的离心压紧块。

2.根据权利要求1所述的用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，其特征在于，所述基片清洗容器为竖向圆柱形。

3.根据权利要求1所述的用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，其特征在于，所述离心压紧块为倒L形。

4.根据权利要求1所述的用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，其特征在于，所述基片清洗容器还包括一组去离子水兆声刀装置，独立可摆动的安装于容器顶盖内部。

5.根据权利要求1所述的用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，其特征在于，所述基片清洗容器还包括一组无接触PVA毛刷臂，安装于容器顶盖内。

6.根据权利要求1所述的用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，其特征在于，所述容器顶盖与容器本体之间具有O型密封圈。

7.根据权利要求1所述的用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，其特征在于，所述基片清洗容器还包括气缸锁紧装置，用于锁紧容器顶盖及容器本体。