[发明专利]镀膜原料收容装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种镀膜原料收容装置。

背景技术

在传统的电子枪蒸镀镀膜过程中，通常将镀膜原料放置在一个坩埚内，该坩埚收容在一固定平台的收容槽内。镀膜时，通过电子枪打击坩埚内的镀膜原料至待镀设备上成膜。然而，使用上述方式镀多层膜时或者每次用完坩埚内的镀膜原料时，需要先将坩埚从收容槽内取出，然后更换镀膜原料，再将更换后的镀膜原料以及坩埚放入收容槽内，以供继续蒸镀。此过程步骤繁琐，耗费时间较长，使得镀膜效率较低，且由于镀膜过程不连续，影响镀膜质量。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种能够节省镀膜时间的镀膜原料收容装置。

一种镀膜原料收容装置，该镀膜原料收容装置包括一承载座、多个叠加且相互固定设置的坩埚以及一升降机构。所述承载座具有一收容腔，所述坩埚用于收容镀膜原料。所述坩埚固定在所述升降机构上且收容在所述收容腔内。所述承载座上开设有一开口，该开口与所述坩埚对正。所述升降机构包括一支撑轴，所述支撑轴一端与所述坩埚固定连接。所述升降机构能够带动所述坩埚相对所述承载座上下运动。

与现有技术相比，本发明的镀膜原料收容装置同时使用多个坩埚来放置镀膜原料，在用完坩埚内的镀膜原料后，可通过该升降机构将空的坩埚从该承载座内移至开口处，方便拿取，同时又能够将下一个坩埚移至镀膜位置，省去了重新放置坩埚的步骤，使得镀膜时间减少，且镀膜过程可以连贯进行。

附图说明

图1为本发明实施方式提供的镀膜原料收容装置与镀膜伞的示意图；

图2为图1的镀膜原料收容装置的承载座与坩埚的分解示意图；

图3为图2的镀膜原料收容装置的坩埚与支撑轴的分解示意图；

图4为图2的镀膜原料收容装置的剖视图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1，为本发明实施方式提供的一种镀膜原料收容装置10，其用于一镀膜装置100中。该镀膜装置100包括所述镀膜原料收容装置10以及一镀膜伞20。该镀膜原料收容装置10用于收容镀膜原料30，其被固定在一固定平台(图未示)上。该镀膜原料收容装置10内的镀膜原料30经蒸发，可覆盖在该镀膜伞20的待镀膜元件(图未示)上成膜。

请结合图2至图4，该镀膜原料收容装置10包括一承载座11、多个坩埚12以及一升降机构13。所述坩埚12固定在所述升降机构13上且收容在所述承载座11内，所述升降机构13可驱动所述坩埚12沿着所述承载座11内壁升降。

所述承载座11包括一本体11a以及一盖体11b，所述盖体11b与所述本体11a活动连接。本实施方式中，所述本体11a呈圆筒状。具体的，所述本体11a包括一侧壁111以及一连接在所述侧壁111底部的底面112，所述侧壁111以及所述底面112围成一收容腔113，所述收容腔113用于收容所述多个坩埚12。与所述底面112相对的侧壁111一端形成有一开口114，所述开口114的直径与所述坩埚12的外径相等。所述盖体11b盖合在所述开口114上，且可相对所述开口114打开或闭合。本实施方式中，所述侧壁111内表面上设置有多个内螺纹115，所述盖体11b外侧壁设置有多个外螺纹116与所述内螺纹115对应螺合，使得所述盖体11b可通过旋转与所述本体11a螺接密封，或从所述本体11a上取下。所述盖体11b能够在非镀膜状态下密封该开口114，从而减少灰尘污染镀膜原料30。所述底面112上开设有一第一通孔117，所述第一通孔117的中心与所述开口114的中心对正。