[发明专利]线沉积源

说明书

这里使用的多个部分的标题只是用于组织目的，而不应该解释为以任何方式限制描述在本申请中的主题。

相关申请部分

本申请要求美国临时专利申请系列号No.61/156348(2009年2月27日递交，标题为“Deposition Source，Systems，and Related Methodsfor Co-Depositing Copper，Indium，and Gallium”)和美国临时专利申请系列号No.61/138932(2008年12月18日递交，标题为“DepositionSource，Systems，and Related Methods for Co-Depositing Copper，Indium，and Gallium”)的优先权。美国临时专利申请系列号No.61/156348和美国临时专利申请系列号No.61/138932的整个文本通过参考结合到本文中。

背景技术

多年来，大面积基片沉积系统已经用于处理多种类型基片材料的柔性腹板(web)基片和刚性面板基片。很多已知的系统设计成处理塑性腹板基片和刚性玻璃面板基片。腹板基片或刚性面板直接从线沉积源的上面经过。适用于将材料蒸发至腹板基片上或刚性面板基片上的已知线沉积源包括船形坩锅，该船形坩锅通常由耐火材料形成，用于容纳沉积源材料。坩锅布置在蒸气出口管的内部。蒸气出口管同时用作蒸发空间和作为用于分配蒸气的空间。一个或多个蒸气出口开口沿该源线性地布置。

附图说明

在下面的详细说明中将结合附图特别介绍根据优选和示例实施例的本发明教导以及本发明的其它优点。本领域技术人员应当知道，下面所述的附图只是用于图示说明目的。附图并不必须按比例，而是重点通常在于图示说明本发明的原理。附图决不是用于以任何方式限制本发明的教导范围。

图1显示了本发明的线沉积源的透视剖视图，它包括多个坩锅，这些坩锅与多个传导槽道连接，然后与线性结构的多个喷嘴连接。

图2A显示了本发明的线沉积源的剖视图，该线沉积源具有多个喷嘴，这些喷嘴定位成使得它们沿向上方向蒸发沉积材料。

图2B显示了本发明的线沉积源的剖视图，该线沉积源具有多个喷嘴，这些喷嘴定位成使得它们沿向下方向蒸发沉积材料。

图2C显示了本发明的线沉积源的剖视图，该线沉积源具有包括多个喷嘴的本体，这些喷嘴沿垂直方向定位。

图2D显示了本发明的另一线沉积源的剖视图，该线沉积源具有包括多个喷嘴的本体，这些喷嘴沿垂直方向定位。

图3显示了本发明的线沉积源的透视剖视图，该线沉积源包括单个坩锅，该坩锅与多个传导槽道连接，然后与线性结构的多个喷嘴连接。

图4显示了用于本发明的线沉积源的坩锅的透视剖视图，该坩锅由两种材料形成。

图5显示了本发明的线沉积源的一部分的顶视透视图，它显示了与壳体中的三个坩锅连接的三个传导槽道。

图6A是用于本发明的线沉积源的电阻坩锅加热器的一部分的透视图，图中显示了加热器的内部和三个侧部，坩锅位于其中。

图6B是用于加热多个坩锅中的每个的多个加热器中的一个的外部的透视图。

图7A是本发明的线沉积源的侧视图，它显示了用于加热多个传导槽道的传导槽道加热器。

图7B是包括传导槽道加热器的杆的透视图。

图7C显示了本发明的线沉积源的本体的透视图，它显示了使杆的端部与本体连接的连接件。

图8显示了包括伸缩杆的本体的框架。

图9A是用于本发明的线沉积源的多个坩锅和多个传导槽道的热屏蔽件的透视剖视图。

图9B是图9A中所示的热屏蔽件的完全透视图。

图10显示了本发明的沉积源的顶视透视图，它显示了在本体中的多个喷嘴，用于将蒸发材料排出至基片或其它工件上。

图11A显示了本发明的沉积源的本体的剖视图，它显示了与传导槽道连接的一列喷嘴，该传导槽道具有控制沉积材料流向喷嘴的管。

图11B显示了本发明的沉积源的多个传导槽道的剖视图，它显示了与多个传导槽道连接的一排喷嘴，该传导槽道具有控制沉积材料流向喷嘴的管。

图12显示了喷嘴的透视图，该喷嘴包括用于本发明的线沉积源的多个喷嘴中的一个。

具体实施方式

在说明书中所述的“一个实施例”或“实施例”的意思是结合该实施例所述的特定特性、结构或特征将包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的不同位置处出现的术语“在一个实施例中”并不必须都指相同实施例。