[发明专利]一种光学反射调节结构

说明书

技术领域

本发明属于电子技术领域。

背景技术

光波具有很多优异性质，它的速度快、对空间影响小。特别是激光，其光波的成分高度纯正，单位时间的能量集中，在很多特殊应用场合，比如应用光波来进行杀菌消毒。空气处理。

但目前对于多次反射组成的光三条结构来说，器反射点的调整及反射角度，都是并不易解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光学反射调节结构，它能够方便的调整放射光的角度。

一种光学反射调节结构，它应用在多次反射的光学腔体中，其特征在于该结构包括：

(1)光学反射面，它是用于反射前述的光学腔中所发出的光波的反射工作面；

(2)复合支架控制结构，它设置在光学反射面下侧，设置包含有三支架支撑结构、两支架支撑结构在内的用于支撑光学反射面的支撑结构。

进一步，所述的一种光学反射调节结构，还具有如下技术特征：

所述的三支架支撑结构，包含有至少一个设置有压电陶瓷的支架。

所述的两支架支撑结构，其中的一个支架与光学反射面之间至少有两个支撑点。

所述的复合支架控制结构连带着光学支撑面，为独立的模块结构。

在所述的复合支架控制结构上，按照三维的相互正交的XYZ坐标系中，针对于X、Y、Z这三个轴向，设置有至少对应其中之一的步进电机。

所述的复合支架控制结构中，每个支架均由位于一端的步进电机和位于另一端的压电陶瓷所组成。

所述的复合支架控制结构中，至少有其中一个支架为能够充液或充气的囊状结构。

所述的囊状结构，是前端具有伸缩凸起的囊状结构，或球状、椭球状结构的其中之一。

在所述的复合支架控制结构和光学反射面下侧之间，设置有通过套环组成的非固定式连接结构。

对应着复合支架控制结构中的支撑结构，设置有通过滑动变阻器改变导入电流来实现位置改变探测的调节量探测组件。

本发明的优点在于：

可以灵活地调动各个光线的反射结构，从而使光线能够按预定的方式来传播，达到用户既定的目的。

图1是本发明中的光学腔体结构示意图，为一种实施例。

图2是本发明所述的光学反射调节结构示意图，为一种实施例。

图3是本发明所述的光学反射调节结构示意图，为另一种实施例。

图4是本发明所述的光学反射调节结构中的支架部分示意图，为一种实施例。

图5是本发明所述的光学反射调节结构中的支架部分示意图，为另一种实施例。

图6是本发明中的光学反射面与复合支架控制结构之间的结构示意图，为一种实施例。

图7是本发明中的光学反射面与复合支架控制结构之间的结构示意图，为一种实施例。

具体实施方式

本发明提供一种光学反射调节结构，它能够控制光线的反射路径，它应用在多次反射的光学腔体中。光学腔体的结构，具体是不限定的，但它适合是光线在其中能够来回反射的空间结构。

作为举例，参图1所示，在本图所示的光学腔100中，就展示了一个光线在其中来回反射的腔体结构。很显然，每一个反射点都需要相对的精准控制，如果没有该光学反射调节结构200的话，会影响光学结构的效用。

参图2所示，这儿展示了本发明所述的光学反射调节结构示意图，为一种实施例。

该光学反射调节结构200包含有如下主要结构：

(1)光学反射面300，它是用于反射前述的光学腔100中所发出的光波的反射工作面；

(2)复合支架控制结构400，它设置在光学反射面300下侧，设置包含有三支架支撑结构、两支架支撑结构在内的用于支撑光学反射面300的支撑结构。

在本实施例中，复合支架控制结构400是通过三支架支撑结构实现的。参图中所示，这儿设置了三个压电陶瓷支架410。压电陶瓷可以在电流的作用下产生一个位移的变化，且位移的变化量和电流强度之间有可控的正比例关系。

当然，也可以是两个支架来实现的，利用两个支架来支撑光学反射面。对于这种情况，所述的两支架支撑结构中，可以设置一个支架与光学反射面300之间至少有两个支撑点，这样利用一个支架就可以控制光学反射面300围绕着两个点所形成的连线进行旋转。

更进一步，还可以用其它类型的支撑架结构进行控制。

因为压电陶瓷可以实现较为精准的位移控制功能，对于前述的三支架支撑结构来说，可以设置至少包含一个压电陶瓷结构的支架。