[发明专利]光学片及光学片的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及出于保护显示器等的表面的目的等而使用的、在基材上至 少设置硬涂层而成的光学片及光学片的制造方法。

背景技术

对于液晶显示器、CRT显示器、投影显示器、等离子体显示器、电致 发光显示器、反射屏等图像显示装置的图像显示面，为了在处置时不造成 损伤，要求赋予耐擦伤性。针对于此，一般采取的做法是，通过使用在基 材上设置了硬涂(HC)层的硬涂片、或还赋予了防反射性或防眩光性等 光学功能的光学片，来提高图像显示装置的图像显示面的耐擦伤性。

仅将粘合剂成分固化了的硬涂层经常有耐擦伤性或硬度不够充分的 情况，一般采取的做法是，如专利文献1所示，使硬涂层中含有二氧化硅 微粒等无机微粒而提高耐擦伤性或硬度。

但是，近年来，要求提供耐擦伤性或硬度更为优异的光学片。

专利文献1  日本特开2008-165040号公报

发明内容

本发明是为了消除上述问题而完成的，其目的在于，提供具有优异的 耐擦伤性及硬度的光学片及该光学片的制造方法。

本发明的光学片是在基材的一面侧至少设置了硬涂层的光学片，其特 征在于，上述硬涂层包含下述硬涂层用固化性树脂组合物的固化物，所述 硬涂层用固化性树脂组合物含有在平均一级粒径为1～100nm的无机微粒 表面具有反应性官能团a的反应性无机微粒以及具有反应性官能团b的粘 合剂成分，并且上述反应性官能团a及b分别在同种及异种的反应性官能 团之间具有交联反应性。

在上述硬涂层中含有上述反应性无机微粒的至少一部分与上述粘合 剂成分发生了交联反应的无机微粒，并且利用该发生了交联反应的无机微 粒，在上述硬涂层的与基材相反一侧的界面上存在与平行于硬涂层的假想 平面所成的最小角度为锐角的微细突起。

反应性无机微粒通过在平均一级粒径为1～100nm的无机微粒的表面 具有与粘合剂成分的反应性官能团b具有交联反应性的反应性官能团a， 由此在使硬涂层用固化性树脂组合物固化而形成硬涂层时，就会与粘合剂 成分发生交联反应，有助于光学片的耐擦伤性及硬度提高。

上述与平行于硬涂层的假想平面所成的最小角度为锐角的微细突起 由于对硬涂层表面的划擦的力耐受性强，因此对本发明的光学片赋予优异 的耐擦伤性及硬度。

本发明的光学片中，从提高耐擦伤性及硬度的方面出发，优选在上述 硬涂层的与基材相反一侧的界面，在上述假想平面的平面方向的长度每 500nm中存在3个以上的上述微细突起。

本发明的光学片中，从薄度、轻度、难破裂性、柔性等方面出发，优 选将上述基材设为光透过性树脂基材。

本发明的光学片中，从提高耐擦伤性及硬度的方面出发，优选上述反 应性无机微粒为反应性二氧化硅微粒，作为该反应性二氧化硅微粒，含有 下述反应性异形二氧化硅微粒，所述反应性异形二氧化硅微粒中，3～20 个平均一级粒径为1～100nm的近似球状的二氧化硅微粒利用无机的化学 键结合，并且该反应性异形二氧化硅微粒在表面具有反应性官能团a。

本发明的光学片中，从提高耐擦伤性及硬度的方面出发，上述反应性 无机微粒相对于上述硬涂层用固化性树脂组合物的全部固体成分的含量 的比例优选为15～70重量％。

本发明的光学片的优选的实施方式中，也可以将光学片的JIS K5600-5-4(1999)中规定的铅笔硬度试验(4.9N载荷)的硬度设为5H以 上。

本发明的光学片的制造方法的特征在于，包括：准备下述硬涂层用固 化性树脂组合物的工序，所述硬涂层用固化性树脂组合物含有3～20个平 均一级粒径为1～100nm的近似球状的二氧化硅微粒利用无机的化学键进 行结合且在表面具有反应性官能团a的反应性异形二氧化硅微粒以及具有 反应性官能团b的粘合剂成分，并且上述反应性官能团a及b分别在同种 及异种的反应性官能团之间具有交联反应性；

将上述硬涂层用固化性树脂组合物涂布于基材的一面侧而形成涂膜 的工序；以及

对于上述涂膜，在抑制上述反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿上述假 想平面的平面方向取向的同时，或在所述抑制之后，利用光照射使上述涂 膜固化形成硬涂层，并且在该硬涂层的与基材相反一侧的界面形成与平行 于硬涂层的假想平面所成的最小角度为锐角的微细突起的工序。