[发明专利]改良的基板干燥系统及干燥基板的方法无效
申请号: | 200910221491.1 | 申请日: | 2009-11-17 |
公开(公告)号: | CN102062518A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 张书省;蔡嘉雄;张钦渊;曾义能;谢洹圳 | 申请(专利权)人: | 均豪精密工业股份有限公司 |
主分类号: | F26B5/16 | 分类号: | F26B5/16;H01L21/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改良 干燥 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种基板干燥系统,特别是涉及一种利用高频振动装置雾化异丙酮,并藉由气体流量控制装置与层流装置的使用,以有效地提升干燥基板表面的效果的一种改良的基板干燥系统及干燥基板的方法。
背景技术
在晶圆(wafer)干燥制程当中,其最常使用的技术为Marangoni干燥法。Marangoni干燥法以惰性气体,例如:氮气,混合雾状的有机溶剂,例如:异丙酮(Isopropyl Alcohol,IPA),当氮气与异丙酮混合体与晶圆表面接触之时,通过异丙酮与浸泡晶圆的去离子水(Deionization Water,DIW)之间表面张力的差异,使得残留于晶圆表面的水分子脱离晶圆表面,而被拉入去离子水之内,以达到干燥晶圆表面的效果。
请参阅图1,是现有习知的晶圆干燥系统,现有习知的晶圆干燥系统3是运用Marangoni干燥法所组装而成,其主要包括:一干燥槽31、一异丙醇储存槽32、一去离子水注入装置33、一排水装置34、一氮气输入装置35、一输送管36、及一加热装置37。而使用现有习知的晶圆干燥系统3进行一晶圆38的干燥,其动作可归纳如下:首先,将该晶圆38置入该干燥槽31内;接着,通过该去离子水注入装置33注入去离子水于干燥槽31内;然后,通过该氮气输入装置35将氮气输入该异丙醇储存槽32之内,以利用氮气将异丙酮经由该输送管36运送至该加热装置37;加热装置37会将氮气与异丙酮的混合体加热成为蒸气状态;接着,经由输送管36继续将蒸气状态的氮气与异丙酮混合体送进干燥槽31内,以使得干燥槽31内布满蒸气状态的氮气与异丙酮混合体;然后,将干燥槽31内的晶圆38缓缓举离去离子水的液面;当氮气与异丙酮混合体与晶圆38表面接触之时,此时,由于晶圆38表面的异丙酮浓度大于去离子水的异丙酮浓度,因此,利用异丙酮的表面张力小于浸泡晶圆38的去离子水表面张力的特性,使得残留于晶圆38表面的水分子脱离晶圆38表面,而被吸进去离子水之内,达到了干燥晶圆38表面的功效。
上述现有习知的晶圆干燥系统为目前业界所常用的晶圆干燥系统,虽然因其构造简单且应用原理易懂,而被普遍地使用,然而,其仍具有许多缺点:
1.使用加热装置加热异丙酮与氮气的混合体,使其成为蒸气状态,虽可气化异丙酮而有效地提升干燥晶圆的效果,然而,加热装置的设备成本过高。
2.异丙酮具有引火特性,故,加热异丙酮是有安全上的疑虑。
由此可见,上述现有的基板干燥系统在结构与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的改良的基板干燥系统及干燥基板的方法,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。
有鉴于上述现有的基板干燥系统存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,并配合学理的运用,积极加以研究创新,以期创设一种新型的改良的基板干燥系统及干燥基板的方法,能够改进一般现有的基板干燥系统,使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经过反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的主要目的在于,克服现有的基板干燥系统存在的缺陷,而提供一种新型的改良的基板干燥系统,所要解决的技术问题是使其有效地提升干燥晶圆的效果,以达到同时降低设备成本与其运转成本,并解决加热异丙酮所需承担安全上的问题,非常适于实用。
本发明的另一目的在于,提供一种新型的改良的干燥基板的方法,所要解决的技术问题是使用具有高频振动装置的改良基板干燥系统,以有效地执行基板的干燥流程,从而更加适于实用。
本发明的再一目的在于,提供一种新型的改良的干燥基板的方法,所要解决的技术问题是使用具有高频振动装置的改良基板干燥系统,并通过气体流量控制装置与层流装置,以有效地执行基板的干燥流程,从而更加适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种改良的基板干燥系统,可应用于干燥一基板,其包括:
一基板容置槽,可将该基板容置其中;
一第一液体容置槽,装设于该基板容置槽的一第一侧边,以容置一第一液体;
一高频振动装置,设置于该第一液体容置槽的内部,该高频振动装置可产生高频振动以将该第一液体雾化成为一雾化第一液体;
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