[发明专利]一种镀铜工艺无效
申请号: | 200910219769.1 | 申请日: | 2009-11-11 |
公开(公告)号: | CN102061471A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 周丽 | 申请(专利权)人: | 周丽 |
主分类号: | C23C28/02 | 分类号: | C23C28/02;C25D3/38;C23C14/35;C23C14/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110159 辽宁省沈阳市浑*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀铜 工艺 | ||
技术领域:
本发明属于精细化工领域,更具体地说,是涉及一种镀铜工艺。
背景技术:
铜镀层具有良好的延展性、结合性、可塑性及易抛光性,广泛应用于装饰防护镀层的底层,这样可以减少镀层孔隙,提高镀层的防蚀性能,而且还可以节约贵重金属的耗用量。由于碳在铜中扩散渗透比较困难,在热处理工艺中为了防止钢铁局部渗碳,往往也要采用镀铜工艺。此外,由于铜与塑料的膨胀系数接近,因此,在塑料电镀中,常用铜镀层作为导电层。
焦磷酸盐镀铜采用焦磷酸铜作为主盐,加上配位剂及其他辅助配位剂等成分,通过控制pH值、温度、空气搅拌等工艺条件得到结晶细致的光亮镀层。由于镀液不含氰化物,分散能力和覆盖能力好,镀液稳定,电流效率高,工艺范围较宽,易于控制,因此,非常适合于工业大批量生产。
然而,传统的镀铜工艺,虽然能得到结晶细致的光亮镀层,但是电流密度较小,导致生产率较低。虽然可以通过添加有机添加剂等来提高电流密度,但是有机添加剂在较高温度下容易分解,影响镀液纯净度,同时有机添加剂又存在废水处理等环保问题。
发明内容:
本发明就是针对上述问题,提供了一种高效、污染小的镀铜工艺。
为了实现本发明的上述目的,本发明采用如下技术方案,本发明的工艺步骤为:
1.除油、水洗、烘干、等离子处理、磁控溅射铜;
2.焦磷酸盐电镀铜
镀液的配方为:
焦磷酸铜70~90g/L、焦磷酸钾300~350g/L、柠檬酸铵0~15g/L、硝酸铵0~20g/L、酒石酸钾钠0~25g/L、氨三乙酸0~20g/L、氨水0~1ml;
镀铜过程的温度为45~55℃,体系pH值为8.2~8.8;
3.烘干。
本发明的有益效果:
1.镀液中的硝酸铵能提高焦磷酸盐电镀时的电流密度至1.5~2.5A/dm2,同时起到改善镀层表面质量的作用;
2.本发明操作简单,对环境的污染小,利于工业化生产。
具体实施方式:
本发明的工艺步骤为:
1.除油、水洗、烘干、等离子处理、磁控溅射铜;
2.焦磷酸盐电镀铜
镀液的配方为:
焦磷酸铜70~90g/L、焦磷酸钾300~350g/L、柠檬酸铵0~15g/L、硝酸铵0~20g/L、酒石酸钾钠0~25g/L、氨三乙酸0~20g/L、氨水0~1ml;
镀铜过程的温度为45~55℃,体系pH值为8.2~8.8;
3.烘干。
实施例1:
1.除油、水洗、烘干、等离子处理、磁控溅射铜;
2.焦磷酸盐电镀铜
镀液的配方为:
焦磷酸铜70g/L、焦磷酸钾350g/L、柠檬酸铵15g/L、硝酸铵20g/L、酒石酸钾钠12.5g/L、氨三乙酸10g/L、氨水1ml;
镀铜过程的温度为45℃,体系pH值为8.2;
3.烘干。
实施例2:
1.除油、水洗、烘干、等离子处理、磁控溅射铜;
2.焦磷酸盐电镀铜
镀液的配方为:
焦磷酸铜90g/L、焦磷酸钾300g/L、柠檬酸铵0g/L、硝酸铵20g/L、酒石酸钾钠0g/L、氨三乙酸20g/L、氨水0.5ml;
镀铜过程的温度为55℃,体系pH值为8.8;
3.烘干。
实施例3:
1.除油、水洗、烘干、等离子处理、磁控溅射铜;
2.焦磷酸盐电镀铜
镀液的配方为:
焦磷酸铜70g/L、焦磷酸钾300g/L、柠檬酸铵15g/L、硝酸铵10g/L、酒石酸钾钠25g/L、氨三乙酸0g/L、氨水0ml;
镀铜过程的温度为50℃,体系pH值为8.5;
3.烘干。
配置焦磷酸盐镀液时,应将叫磷酸铜用少量去离子水调成糊状,然后缓慢加入到已溶解的焦磷酸钾中,不断搅拌,直至完全溶解;
镀液中加入氨三乙酸时,应先将NaOH溶解于水中,NaOH的量为氨三乙酸的3%,待碱液温度低于60℃后,将氨三乙酸逐渐加入碱液中搅匀,最后将其加入到焦磷酸铜与焦磷酸钾已混合好的溶液中,再搅匀;
镀液中添加氨水,应在pH值调整前加入;
硝酸铵应定期分析调整。
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