[发明专利]反射器阵列和包括该反射器阵列的天线

权利要求书

1.一种反射器阵列，包括彼此并排布置的多个辐射元件，并且形 成没有突变的，并且能够用相位变化规律来反射入射波的反射表面， 所述相位变化规律被选择以提供给定覆盖，其特征在于：

-辐射元件(1、2、3、4、5、6、7、8、9)由平面技术生产，

-反射表面的每个辐射元件选自称为图形的一组预定的连续的辐射 元件(1、2、3、4、5、6、7、8、9)，所述图形能够在图形的第一个 辐射元件(1)和最后一个辐射元件(9)之间产生至少360°的逐渐的 相位变化，

-所述图形的第一个辐射元件(1)和最后一个辐射元件(9)对应 于同一个相位，以360°为模，并且是相同的，

-所述图形的辐射元件(1、2、3、4、5、6、7、8、9)具有金属片 型和辐射孔型的辐射结构，该辐射结构从一个辐射元件到另一个相邻 的辐射元件逐渐变化，辐射结构的变化包括，金属片(25)、孔(27)、 孔(27)环绕金属片(25)和金属片(25)环绕孔(27)的一系列逐 渐的变化。

2.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，孔(27)是 环形狭槽(24)，该环形狭槽的电长度从一个辐射元件(7)到另一个 相邻的辐射元件(8)逐渐的增加。

3.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，金属片(25) 是金属环(26)，该金属环具有从一个辐射元件(3)到另一个相邻的 辐射元件(4)变化的宽度。

4.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，所述图形包 括：

-多个连续的第一辐射元件(1、2、3、4)，包括限制了内部孔(27) 的金属环(26)，其中金属环(26)的宽度从一个辐射元件到另一个相 邻的辐射元件逐渐的增加，直到内部孔(27)消失，以及

-多个连续的第二辐射元件(6、7、8、9)，包括内部金属片(25) 以及至少一个环形狭槽(24)，其中环形狭槽(24)的宽度从一个辐射 元件到另一个相邻的辐射元件逐渐的增加，直到内部金属片(25)消 失。

5.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，所述图形还 包括至少一个辐射元件(51、52、53)，所述辐射元件包括至少一个金 属片(25)和形成在金属片(25)中的两个同心环形狭槽(54、55、 56)。

6.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，所述图形还 包括多个辐射元件(51、52、53)，所述辐射元件包括金属片(25)和 形成在金属片(25)中的多个同心环形狭槽(54、55、56)，并且其中 辐射元件(51)的至少一个环形狭槽的电长度相对于另一个相邻的辐 射元件(52)变化。

7.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，所述图形包 括具有全金属片(25)的辐射元件(50)，和具有金属片(25)和形成 在金属片(25)中的多个同心环形狭槽(54、55、56)的多个连续辐 射元件(51、52、53)，并且其中环形狭槽的长度从一个辐射元件(51) 到另一个相邻的辐射元件(52)独立地或同时变化。

8.根据权利要求1所述的反射器阵列，其特征在于，所述图形的 至少一个辐射元件包括一个环形狭槽(24)或多个同心环形狭槽(54、 55、56)，以及至少一个短路装置(28)和/或电容装置，该至少一个短 路装置(28)和/或电容装置放置在所述环形狭槽(24、54、55、56) 中，所述短路装置和/或电容装置使得狭槽的电长度变化。

9.根据权利要求8所述的反射器阵列，其特征在于，所述短路装 置(28)是在预定的点以及长度上将狭槽(24)分割开的镀金属。

10.根据权利要求8所述的反射器阵列，其特征在于，所述短路装 置为微型开关(85)。

11.根据权利要求10所述的反射器阵列，其特征在于，所述图形 的多个连续辐射元件包括至少一个微型开关(85)，并且每个微型开关 (85)位于环形狭槽(24)中的预定点处并且处于选择的断开或闭合 状态，所有的环形狭槽具有相同的宽度。