[发明专利]发光元件无效
| 申请号: | 200910173133.8 | 申请日: | 2009-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN101673798A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
| 发明(设计)人: | 新井优洋;饭塚和幸 | 申请(专利权)人: | 日立电线株式会社 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/00;H01S5/343;H01S5/02 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 雒纯丹 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发光 元件 | ||
技术领域
本发明涉及一种发光元件。本发明特别是涉及一种能够以高成品率制造的高光输出的发光元件。
背景技术
已知以往技术中一种发光元件(例如参照专利文献1),该发光元件包括在一个表面具有正电极的硅支撑衬底、设置在硅支撑衬底的另一表面上的金属反射层、设置在金属反射层上并与金属反射层形成欧姆接触的透光膜、具有夹入设置在透光膜上并与透光膜形成欧姆接触的p型半导体层和n型半导体层之间的有源层的半导体层压结构、设置在半导体层压结构上的负电极。
专利文献1中记载的发光元件由于在半导体层压结构和金属反射层之间配置具有导电性的透光膜,与半导体层压结构和金属反射层二者形成欧姆接触的同时,抑制了半导体层压结构和金属反射层之间的合金化,所以可形成具有优异的光反射特性的金属反射层,能够提供发光效率提高的发光元件。
专利文献1:日本特开2005-175462号公报
发明内容
但是,专利文献1中记载的发光元件在制造时,由于通过切割工艺分别分离多个发光元件时,在硅支撑衬底的背面产生硅支撑衬底的碎片、裂纹等所谓的背面碎屑,所以发光元件的制造成品率的提高存在限制。
因此,本发明的目的在于提供一种发光元件的制造成品率高的发光元件。
本发明提供一种发光元件,所述发光元件包括具有第一导电型的第一半导体层、与第一导电型不同的第二导电型的第二半导体层、夹入第一半导体层和第二半导体层之间的有源层的半导体层压结构,设置在半导体层压结构的一个表面侧的对有源层发出的光进行反射的反射层,在反射层的半导体层压结构的相反侧隔着金属接合层支撑半导体层压结构的支撑衬底,与支撑衬底的金属接合层侧的相反侧的面接触设置的密合层,以及与密合层的接触支撑衬底的面的相反侧的面接触设置的由多种金属的合金制成的背面电极。
此外,上述发光元件的半导体层压结构也可隔着设置在反射层和金属接合层之间的透明层被支撑衬底支撑,透明层也可具有贯通透明层并电连接半导体层压结构和反射层的界面电极。此外,密合层也可由固定支撑衬底和背面电极的Ti形成。进而,背面电极也可具有高于Au的硬度。而且,背面电极也可由选自Al、Sn、Si、Zn、Be和Ge构成的组中的至少一种材料和Au的合金形成。
根据本发明中的发光元件,可提供一种发光元件的制造成品率高的发光元件。
附图说明
图1A为实施方式中的发光元件的纵截面示意图。
图1B为实施方式中的发光元件的俯视示意图。
图2A为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2B为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2C为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2D为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2E为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2F为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2G为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2H为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2I为实施方式中的发光元件的制造工序图。
图2J为实施方式中的发光元件的制造工序图。
符号说明
1发光元件
1a半导体层压结构体
1b、1c、1d、1e、1f、1g、1h接合结构体
10、11半导体层压结构
20支撑衬底
20a支撑结构体
100 n型GaAs衬底
101 n型接触层
102 蚀刻阻挡层
103 n型覆层
105 有源层
107 p型覆层
109 p型接触层
110 表面电极
110a、110b、110c、110d 线电极
115 焊盘电极
120 接触部
120a 外周部
120b、120c、120d、120e 细线部
130 反射部
132 反射层
134 阻挡层
136、202 接合层
136a、202a 接合面
140 透明层
140a 开口
200 密合层
204 接触电极
210 背面电极
212 密合层
214 第一金属层
216 第二金属层
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立电线株式会社,未经日立电线株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910173133.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





