[发明专利]图像传感装置及缺陷像素检测方法有效

专利信息
申请号: 200910171855.X 申请日: 2009-09-11
公开(公告)号: CN101677359A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 山口利朗 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/217;H04N5/335
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 代理人: 迟 军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 传感 装置 缺陷 像素 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种图像传感装置,该图像传感装置包括:

图像传感器,其被构造成对来自被摄体的入射光进行光电转换;

缺陷像素检测单元,其被构造成基于由所述图像传感器生成的图像信 号,检测所述图像传感器的缺陷像素;以及

控制单元,其被构造成当检测所述图像传感器中的第一缺陷像素以及 第二缺陷像素时,进行控制,使得在检测所述第一缺陷像素时的所述图像 传感器的存储时间短于在检测所述第二缺陷像素时的所述图像传感器的存 储时间,并且使得用于检测所述第一缺陷像素的图像信号的数量大于用于 检测所述第二缺陷像素的图像信号的数量,其中所述第一缺陷像素具有不 规则地输出异常电平的特性,所述第二缺陷像素具有规则输出异常电平的 特性。

2.根据权利要求1所述的图像传感装置,其中,所述缺陷像素检测单 元将输出电平超过阈值的像素确定为缺陷像素,并且在检测所述第一缺陷 像素时的阈值被设置为低于在检测所述第二缺陷像素时的阈值。

3.根据权利要求1所述的图像传感装置,其中,在检测所述第一缺陷 像素时的所述图像传感器的环境温度被设置为低于在检测所述第二缺陷像 素时的所述图像传感器的环境温度。

4.一种缺陷像素检测方法,该缺陷像素检测方法包括以下步骤:

基于由被构造成对来自被摄体的入射光进行光电转换的图像传感器生 成的图像信号,检测所述图像传感器的缺陷像素;

当检测所述图像传感器中的第一缺陷像素以及第二缺陷像素时,进行 控制,使得在检测所述第一缺陷像素时的所述图像传感器的存储时间短于 在检测所述第二缺陷像素时的所述图像传感器的存储时间,并且使得用于 检测所述第一缺陷像素的图像信号的数量大于用于检测所述第二缺陷像素 的图像信号的数量,其中所述第一缺陷像素具有不规则地输出异常电平的 特性,所述第二缺陷像素具有规则输出异常电平的特性。

5.一种图像传感装置,该图像传感装置包括:

传感器,其被构造成对来自被摄体的入射光进行转换;

检测单元,其被构造成基于由所述传感器生成的图像信号,检测所述 传感器的缺陷像素;以及

控制单元,其被构造成当检测所述传感器中的第一缺陷像素以及第二 缺陷像素时,进行控制,使得在检测所述第一缺陷像素时的所述传感器的 存储时间短于在检测所述第二缺陷像素时的所述传感器的存储时间,其中 所述第一缺陷像素具有不规则地输出异常电平的特性,所述第二缺陷像素 具有规则输出异常电平的特性。

6.根据权利要求5所述的图像传感装置,其中,用于检测所述第一缺 陷像素的图像信号的数量大于用于检测所述第二缺陷像素的图像信号的数 量。

7.根据权利要求5所述的图像传感装置,其中,所述检测单元将输出 电平超过阈值的像素确定为缺陷像素。

8.根据权利要求7所述的图像传感装置,其中,在检测所述第一缺陷 像素时的阈值被设置为低于在检测所述第二缺陷像素时的阈值。

9.根据权利要求5所述的图像传感装置,其中,在检测所述第一缺陷 像素时的所述传感器的环境温度被设置为低于在检测所述第二缺陷像素时 的所述传感器的环境温度。

10.一种缺陷像素检测方法,该缺陷像素检测方法包括以下步骤:

基于由传感器生成的图像信号来检测所述传感器的缺陷像素;

当检测所述传感器中的第一缺陷像素以及第二缺陷像素时,进行控制, 使得在检测所述第一缺陷像素时的所述传感器的存储时间短于在检测所述 第二缺陷像素时的所述传感器的存储时间,其中所述第一缺陷像素具有不 规则地输出异常电平的特性,所述第二缺陷像素具有规则输出异常电平的 特性。

11.根据权利要求10所述的缺陷像素检测方法,其中,所述控制步骤 还包括:进行控制,使得用于检测所述第一缺陷像素的图像信号的数量大 于用于检测所述第二缺陷像素的图像信号的数量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910171855.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top