[发明专利]防镀膜影响的外部检出装置及溅镀装置

说明书

技术领域

本发明是一种检出装置，尤其是一种适用安装于薄膜沉积装置的防镀膜影响的外部检出装置。

背景技术

随着科技的进步与发展，电子产业的产品日新月异，近年来真空镀膜技术已逐渐取代传统喷导电漆或电解电镀的镀膜方式，而广泛地应用于半导体制程、光电和3C产业中，成为重要的镀膜生产技术。

目前业界所使用的镀膜设备大多为连续式(In-Line)多腔体(multi-chambers)的作业流程，与传统批次式(batch type)或晶圆式(wafertype)生产方式比较，可大幅降低设备成本及厂房空间，极具量产经济价值及产业竞争性。以连续式多腔体的镀膜设备为例，该连续式多腔体内部包含一承载盘(或俗称台车)可于各腔体内部前进，为了检测该承载盘的行进位置，经常于该连续式多腔体设有一检测装置。

请参考图7A、7B及图8，其为既有安装于连续式多腔体的镀膜设备72的一检出装置73的示意图，该镀膜设备72包含复数个成对的观窗口722，成对的两个该观窗口722分别设于该镀膜设备72的外表面。该检出装置73包含二成对的光学检测组件732，两个该光学检测组件732分别固定置于两个成对的观窗口722外部，并使两个该光学检测组件732分别作为一光输出组件及一光接收组件，其中，两个成对的该光学检测组件732依据其间的光传输路径是否被一个可于该镀膜设备72行进的一承载盘75遮挡而判断该承载盘75的位置(如图7A、7B所示)。

在溅镀过程中，为了避免该观窗口722被溅射的材料粒子污染沾附，该检出装置73包含一遮板733固定设于该镀膜设备72的内部于该观窗口722的对应位置。然而，该遮板733的阻挡材料粒子的功效不佳，材料粒子仍会穿过该遮板733的开口而镀制于该观窗口722的内表面，当该观窗口722的内表面沾附过多的材料粒子进而影响该光学检测组件732的光传输路径，而使前述的检测功能大受影响，甚至毫无功用；使用者必须经常保养、清除该观窗口722上的材料粒子或薄膜，以保前述检测的功能，故造成使用不便及维护成本增加的问题。

发明内容

为了解决既有设于溅镀设备外部的检出装置的遮板的阻挡性能不佳的技术问题，本发明以一管体取代该遮板，让该检出装置的光传输路径得到良好的屏蔽保护，达到提升使用便利性及降低维护成本的目的。

配合前述的技术问题及发明目的，本发明提供一种防镀膜影响的外部检出装置，其包含：

一讯号输出模块，其包含一发射器以及一输出模块防镀管，该发射器产生一输出光；该输出模块防镀管为中空且两端开放的管体，其固定置于该输出光的传输路径上；及

一讯号接收模块，其包含一接收器以及一接收模块防镀管，该接收器与该发射器相对；该接收模块防镀管为中空且两端开放的管体，其置于该输出光的传输路径上并接收该输出光。

其中，该讯号输出模块及该讯号接收模块分别包含一调整座，两个该调整座分别对应连接该发射器及该接收器。

其中，该输出模块防镀管及该接收模块防镀管的材质为一金属或一铁氟龙或工程塑料类。

其中，该输出光为红外线或雷射光线。

本发明又提供一种溅镀装置，其包含：

复数个连续接合的腔体，每一腔体包含一底座、一上盖以及一传动结构，该上盖盖合于该底座的一开放面，该传动结构固定设于该底座的一内表面，其中，该底座包含一个以上的玻璃窗口组，每一玻璃窗口组包含二成对的玻璃窗口，每一玻璃窗口密合固定于该底座的一侧腔壁并与成对的另一个玻璃窗口位置相对；

一个以上的承载盘，该一个以上的承载盘于该传动结构传输而于各腔体之间移动，该承载盘的移动路径与该玻璃窗口组的位置对应；

一个以上的外部检出装置，每一外部检出装置包含一讯号输出模块以及一讯号接收模块，其固定结合于该底座并分别与两个成对的该玻璃窗口的位置对应，其中：

该讯号输出模块包含一发射器以及一输出模块防镀管，该发射器固定设于该底座的外表面，其产生一输出光朝向对应的该玻璃窗口；该输出模块防镀管为中空且两端开放的管体，其置于该腔体内并遮蔽该玻璃窗口且位置与该输出光的传输路径同轴；及

该讯号接收模块包含一接收器以及一接收模块防镀管，该接收器固定设于该底座的外表面，其与该发射器相对并接收该输出光；该接收模块防镀管为中空且两端开放的管体，其置于该腔体内并遮蔽该玻璃窗口且位置与该输出光的传输路径同轴。

其中，该讯号输出模块及该讯号接收模块分别包含一调整座，两个该调整座分别对应连接该发射器及该接收器，且两个该调整座并分别与该腔体表面固定连接。