[发明专利]透光电导体及其制造方法、静电消除片和电子装置有效
| 申请号: | 200910147004.1 | 申请日: | 2009-06-04 |
| 公开(公告)号: | CN101599316A | 公开(公告)日: | 2009-12-09 |
| 发明(设计)人: | 清水圭辅 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
| 主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B1/04;H01B13/00;H05F1/02;H01L29/786;G06F3/045 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透光 导体 及其 制造 方法 静电 消除 电子 装置 | ||
1.一种透光电导体,在透光支撑体的表面上包括:
导电材料,其中多个碳纳米线性结构二维堆积且彼此部分接触,
其中所述导电材料是仅由所述碳纳米线性结构组成的透光导电材料,并 且
在所述透光支撑体的所述表面和与所述表面接触的所述碳纳米线性结 构之间以及彼此接触的所述碳纳米线性结构之间形成直接结合,而没有粘合 树脂或者分散剂的干扰。
2.根据权利要求1所述的透光电导体,其中所述碳纳米线性结构从垂 直于所述透光支撑体的表面的方向观察彼此部分重叠。
3.根据权利要求1所述的透光电导体,其中所述碳纳米线性结构是碳 纳米管。
4.根据权利要求1所述的透光电导体,其中所述透光支撑体是玻璃板 或者聚合树脂板。
5.根据权利要求4所述的透光电导体,其中所述透光支撑体的所述表 面已经经受了增强对所述碳纳米线性结构亲和性的处理。
6.根据权利要求5所述的透光电导体,其中所述透光支撑体是如下的 玻璃板:通过臭氧处理、有臭氧气体存在的紫外线处理和有氧气存在的等离 子体处理中的至少一个来增强所述玻璃板的表面的亲水性。
7.根据权利要求5所述的透光电导体,其中所述透光支撑体是如下的 聚合树脂板:通过臭氧处理、有臭氧气体存在的紫外线处理、有氧气存在的 电晕处理、有氧气存在的等离子体处理和用硅烷偶联剂处理中的至少一个使 所述聚合树脂板的表面亲水,或者在所述聚合树脂板的表面上提供亲水层。
8.根据权利要求1所述的透光电导体,其中所述碳纳米线性结构已经 经受了增强对所述透光支撑体的所述表面亲和性的处理。
9.根据权利要求8所述的透光电导体,其中已经通过用过氧化氢水溶 液、硝酸和浓硫酸中的至少一个的加热处理来使所述碳纳米线性结构亲水。
10.根据权利要求1所述的透光电导体,其中所述导电材料具有10至 300,000Ω/□的片电阻和不低于70%的可见光透射率。
11.根据权利要求1所述的透光电导体,还包括覆盖所述透光支撑体的 所述表面和与所述表面接触的所述碳纳米线性结构之间的连接处的聚合树 脂层。
12.根据权利要求1所述的透光电导体,其中所述导电材料形成透明电 极。
13.一种制造透光电导体的方法,
所述透光电导体包括在透光支撑体的表面上的导电材料,其中多个碳纳 米线性结构二维堆积且彼此部分接触,
所述导电材料是仅由所述碳纳米线性结构组成的透光导电材料,并且
在所述透光支撑体的所述表面和与所述表面接触的所述碳纳米线性结 构之间以及彼此接触的所述碳纳米线性结构之间形成直接结合,
其中所述方法包括执行系列步骤预定的次数,所述系列步骤包括下面的 步骤:
在所述碳纳米线性结构分散在分散溶剂中的分散液中浸没所述透光支 撑体以预定的时间,以在所述透光支撑体的所述表面上吸附所述碳纳米线性 结构;
用清洗溶剂清洗从所述分散液中取出的所述透光支撑体的所述表面,以 去除没有吸附在所述表面上的碳纳米线性结构;以及
蒸发所述分散溶剂和所述清洗溶剂,以固定所述吸附的碳纳米线性结 构,其中所述分散溶剂对所述碳纳米管的亲和性低于对所述透光支撑体的表 面的亲和性。
14.根据权利要求13所述的方法,其中碳纳米管用作所述碳纳米线性 结构。
15.根据权利要求13所述的方法,其中卤代烃用作所述分散溶剂。
16.根据权利要求13所述的方法,其中玻璃板或者聚合树脂板用作所 述透光支撑体。
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