[发明专利]基板观察装置、基板观察方法以及控制装置无效

专利信息
申请号: 200910143199.2 申请日: 2009-05-19
公开(公告)号: CN101587080A 公开(公告)日: 2009-11-25
发明(设计)人: 高木修 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01B11/00;G01B11/03;G05B19/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李 辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 观察 装置 方法 以及 控制
【权利要求书】:

1.一种基板观察装置,其特征在于,该基板观察装置具有:

光学单元,其对基板进行放大观察;

相对移动单元,其根据指定所述基板上的观察对象的位置的第一位置信息,使所述光学单元相对于所述基板的相对位置移动;

摄像单元,其经由通过所述相对移动单元相对于所述基板进行相对移动后的所述光学单元来拍摄所述观察对象,并输出拍摄图像;

图像处理单元,其从所述摄像单元取入所述拍摄图像,并根据所述拍摄图像来取得表示所述观察对象的位置的第二位置信息;

校正信息生成单元,其根据由所述图像处理单元取得的所述第二位置信息来生成校正信息,该校正信息用于根据所述第一位置信息来校正基于所述第一位置信息的通过所述相对移动单元进行的相对移动的量;以及

校正信息存储单元,其将所述校正信息生成单元所生成的所述校正信息与预先定义的多个区域中对应于所述第一位置信息的区域相关联地进行存储。

2.根据权利要求1所述的基板观察装置,其特征在于,所述多个区域是通过将所述基板上的观察对象范围或者相当于该观察对象范围的由所述相对移动单元进行的相对移动的范围分割成网格状来定义的。

3.根据权利要求1所述的基板观察装置,其特征在于,所述基板是将多个已知图形分别配置在已知位置上的标准基板,

所述观察对象是所述多个已知图形,

所述相对移动单元将表示所述已知图形的所述已知位置的信息用作所述第一位置信息来使所述光学单元相对于所述基板的相对位置移动,

所述校正信息生成单元针对所述多个已知图形分别生成所述校正信息,

所述校正信息存储单元存储针对所述多个已知图形分别生成的所述校正信息。

4.根据权利要求1所述的基板观察装置,其特征在于,所述观察对象是所述基板上的缺陷,

所述第一位置信息是表示由缺陷检测装置从所述基板检测出所述缺陷的位置的信息,所述缺陷检测装置是与所述基板观察装置不同的装置。

5.根据权利要求4所述的基板观察装置,其特征在于,在所述校正信息存储单元已经将校正信息与对应于所述第一位置信息的所述区域相关联地存储的情况下,所述相对移动单元在进行基于所存储的已有的所述校正信息的校正后使所述光学单元相对于所述基板的相对位置移动。

6.根据权利要求4所述的基板观察装置,其特征在于,所述第一位置信息由以所述基板为基准的基板坐标系的坐标表示。

7.根据权利要求6所述的基板观察装置,其特征在于,所述多个区域是通过将所述基板上的观察对象范围分割成多个来定义、且由所述基板坐标系表示的区域,

所述校正信息通过在所述基板坐标系中表示校正所述第一位置信息的量,间接地表示对所述相对移动的量进行校正的量,

所述校正信息存储单元将所述校正信息生成单元所生成的所述校正信息与包含利用所述基板坐标系来表示由所述第一位置信息所指定的所述缺陷的所述位置的坐标在内的区域相关联地进行存储。

8.根据权利要求7所述的基板观察装置,其特征在于,所述校正信息生成单元根据由所述基板坐标系表示的所述第一位置信息和由所述基板坐标系表示的所述第二位置信息之差,来生成所述校正信息。

9.根据权利要求6所述的基板观察装置,其特征在于,所述多个区域是通过将由所述相对移动单元进行的相对移动的范围分割成多个来定义的、且由用于表示所述相对移动的量的装置坐标系的坐标表示的区域,该装置坐标系以所述基板观察装置为基准,

所述校正信息表示对利用所述装置坐标系来表示由所述第一位置信息指定的所述缺陷的所述位置的坐标进行校正的量,

所述校正信息存储单元将所述校正信息生成单元所生成的所述校正信息与包含利用所述装置坐标系来表示由所述第一位置信息指定的所述缺陷的所述位置的所述坐标在内的区域相关联地进行存储。

10.根据权利要求4所述的基板观察装置,其特征在于,所述基板观察装置还包含根据所述第二位置信息进行所述缺陷的检查、测量、分类或者修正的单元。

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