[发明专利]光偏转器及其制造方法

权利要求书

1.一种光偏转器，包括：

可动板，包括反射面和侧面；以及

支承部，支承所述可动板，使所述可动板可围绕规定的 轴转动，

其中，所述可动板的所述侧面向所述轴凹陷，

所述可动板的所述侧面具有与所述支承部连接的连接 部，在所述连接部附近的角部处，形成有收容在凹陷中的凸部。

2.一种光偏转器，包括：

可动板，包括反射面和侧面；以及

支承部，支承所述可动板，使所述可动板可围绕规定的 轴转动，

其中，所述可动板的所述侧面向所述轴凹陷，

所述可动板的所述侧面具有与所述支承部连接的连接 部，在所述连接部附近的角部处，在向垂直于所述轴的方向凹 陷的凹陷中形成有收容在所述凹陷中的凸部。

3.根据权利要求1或2所述的光偏转器，其中，

在所述可动板的所述侧面出现规定的结晶面。

4.根据权利要求1或2所述的光偏转器，其中，

当所述可动板的厚度是a、所述可动板的反射面的外形尺 寸是b时，a/b大于等于0.01小于等于1.4。

5.一种光偏转器的制造方法，包括如下步骤：

在基板的两面形成具有规定图案的掩膜；以及

使用所述掩膜从两面对所述基板进行蚀刻，形成可动板 和从两侧支承所述可动板的支承部，

其中，在形成所述可动板及所述支承部的步骤中，使用 湿式蚀刻过蚀刻所述基板，从而至少使所述基板的形成所述可 动板的部位处的侧面凹陷，

在所述基板的两面形成具有规定图案的掩膜的步骤中， 形成包括第一掩膜图案、第二掩膜图案、以及校正掩膜图案的 掩膜，其中，所述第一掩膜图案与所述可动板对应，所述第二 掩膜图案与所述支承部对应，所述校正掩膜图案用于防止所述 可动板与所述支承部的连接部的截面积小于其他部位，

其中，在所述连接部附近的角部处，形成有收容在凹陷 中的凸部。

6.一种光偏转器的制造方法，包括如下步骤：

在基板的两面形成具有规定图案的掩膜；以及

使用所述掩膜从两面对所述基板进行蚀刻，形成可动板 和从两侧支承所述可动板的支承部，

其中，在形成所述可动板及所述支承部的步骤中，使用 湿式蚀刻过蚀刻所述基板，从而至少使所述基板的形成所述可 动板的部位处的侧面凹陷，

在所述基板的两面形成具有规定图案的掩膜的步骤中， 形成包括第一掩膜图案、第二掩膜图案、以及校正掩膜图案的 掩膜，其中，所述第一掩膜图案与所述可动板对应，所述第二 掩膜图案与所述支承部对应，所述校正掩膜图案对应于所述可 动板与所述支承部的连接部且宽度大于所述第二掩膜图案，

其中，在所述连接部附近的角部处，形成有收容在凹陷 中的凸部。

7.根据权利要求5或6所述的光偏转器的制造方法，包括：

在形成所述可动板及所述支承部的步骤之后，通过对所 述基板实施各向同性蚀刻从而使所述基板的规定的结晶面的 棱线部形成弧形的步骤。