[发明专利]一种工艺控制方法及控制系统

权利要求书

1.一种工艺控制方法，其特征在于，用于对半导体工艺过程进行精确 地定量调节与控制，所述方法包括：

预先建立半导体工艺输入变量与半导体工艺输出变量之间的函数关系 式，并确定所述函数关系式的系数；

预置半导体工艺基准输入变量值；按照预置的输入变量调节次序，利用 所述函数关系式的系数逐个对所述基准输入变量值进行调节，每次调节之 后，进行如下控制步骤：

利用调节后的基准输入变量值测量真实输出变量值；判断所述真实输出 变量值与工艺控制目标之间的误差是否达到控制精度，如果达到，则结束所 述调节；如果未达到，则继续对基准输入变量值进行调节，直到达到控制精 度；

对其中一个基准输入变量值进行调节，具体包括：

设定该一个基准输入变量值为β_i，调节后的该一个基准输入变量值为 对应该一个基准输入变量的关系式系数为a_i，上一次调节得到的真实输 出变量值为Y₀，工艺控制目标为T，则：

β^i=βi+Δβi=βi+T-Y0ai.]]>

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对其中一个基准输 入变量值进行调节之后，还包括：

判断所述调节后的基准输入变量值是否在预置的该一个基准输入变 量对应的调节窗口[L_i，U_i]中；其中，L_i和U_i分别表示基准输入变量值的取 值上限和取值下限；

如果在调节窗口[L_i，U_i]中，则所述控制步骤具体包括：利用所述测 量真实输出变量值Y₀；判断所述真实输出变量值Y₀与工艺控制目标之间的误 差是否达到控制精度，如果达到，则结束所述调节；如果未达到，则继续在 该基准输入变量对应的调节窗口[L_i，U_i]中对该基准输入变量值进行调节，直 到达到控制精度；

如果不在调节窗口[L_i，U_i]中，则当时，令当时， 令然后继续对下一个基准输入变量值进行调节，直到达到控制精度。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，还包括：

对所述函数关系式中的系数进行调节；

则利用所述函数关系式的系数对所述基准输入变量值进行调节，具体 为：利用所述调节后的系数对所述基准输入变量值进行调节。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预先建立工艺输入 变量与输出变量之间的函数关系式，并确定所述函数关系式的系数，具体包 括：

预先建立工艺输入变量与输出变量之间的多元线性回归关系式；

将历史输入变量值和输出变量值带入所述多元线性回归关系式，求解出 所述函数关系式的回归系数。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述将历史输入变量值 和输出变量值带入所述关系式之前，还包括：

通过工艺正交实验确定所述历史输入变量值与历史输出变量值。