[发明专利]一种闭合场非平衡磁控溅射制备铬铝氮薄膜的方法无效
申请号: | 200910074779.0 | 申请日: | 2009-06-15 |
公开(公告)号: | CN101575696A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 许并社;余春燕;郭端阳;张竹霞;彭彦彬 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 | 代理人: | 江淑兰 |
地址: | 030024山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 闭合 平衡 磁控溅射 制备 铬铝氮 薄膜 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种闭合场非平衡磁控溅射制备铬铝氮薄膜的方法,属高强、高硬度材料表面镀膜及应用的技术领域。
背景技术
在机械制造工业领域,使用着大量的金属材料,由于用途和要求不同,对材料的处理也不同,例如具有高强度、高硬度的工摸具及耐磨损、耐腐蚀的机械零件,都需要对其进行增强、增硬处理。
对工具、模具及机械零件的增强、增硬处理,也有多种方法,例如表面合金化,在金属材料表面渗入镍、铬、钼、硅等元素,以增强其强度、硬度;例如热处理法,在高温下改变金属的内部金相组织结构,以提高材料的硬度、强度,还有表面渗金属法,高频淬火法等。
硬质薄膜是改善工件表面耐磨性及抗高温氧化的有效途径之一,薄膜沉积技术主要包括化学气相沉积和物理气相沉积,化学气相沉积由于沉积温度高,使其在基体上的应用受到限制,物理气相沉积由于沉积温度低,可应用的基材范围广,薄膜质量易于控制,获得了广泛应用;物理气相沉积主要包括真空蒸镀和溅射沉积,溅射法生成的薄膜致密、膜基结合力好,应用较广,溅射镀膜方式有射频溅射、三极溅射和磁控溅射,磁控溅射相对其他溅射有较高的镀膜速率,磁控溅射从最初的常规磁控、平衡磁控发展到非平衡磁控,目前,非平衡磁控与多源闭合磁场结合,使真空室的等离子体密度得到提高,离子轰击效果增强,可获得更佳的镀层质量;采用闭合场非平衡磁控溅射镀膜,由于溅射条件、靶源材料、载体金属不同,溅射镀膜效果也有诸多差异和不足,还存在很多弊端,例如膜层厚度不够均衡,技术参数不稳定等。
发明内容
发明目的
本发明的目的就是针对背景技术的不足,采用闭合场非平衡磁控溅射法,在铬钨锰钢材表面进行溅射镀膜,生成铬铝氮硬质薄膜,以大幅度提高铬钨锰钢表面的硬度、强度和耐磨性。
技术方案
本发明使用的化学物质材料为:铬钨锰钢板、丙酮、氮气、氩气、铬块、铝块、去离子水、研磨粉,其组合用量如下:以克、毫升、厘米3为计量单位
铬钨锰钢板:Cr WMn 200×100×20mm 1块
铬块:Cr 720×120×6mm 2块
铝块:Al 720×120×6mm 2块
丙酮:CH3COCH 10000ml±100ml
氮气:N2 100000cm3±100cm3
氩气:Ar 100000cm3±100cm3
去离子水:H2O 10000ml±100ml
研磨粉:氧化铝600粒
闭合场非平衡磁控溅射法制备铬铝氮硬质薄膜:
(1)精选材料、化学物质
对制备所需的化学物质材料要进行精选,并进行形状、尺寸、精度、质量纯度控制:
铬钨锰钢板:CrWMn固态固体,含Cr 1.03%,W 1.3%,Mn 0.92%,Si0.29%,C 1.09%
铬块:固态固体,99.99%
铝块:固态固体,99.99%
丙酮:液态液体,99.9%
去离子水:液态液体,99.6%
氮气:气态气体,99.99%
氩气:气态气体,99.99%
研磨粉:粒径均匀
(2)机械刨切铬钨锰钢板
将200×100×20mm的铬钨锰钢板在机械铇床上刨切六面,各面垂直,表面粗糙度Ra2.5-5μm;
(3)铬钨锰钢板热处理
①高温淬火:将铬钨锰钢板置于高温热处理炉中,进行高温淬火,淬火温度为870℃,表面硬度HRC63-65,冷却介质为机油;
②低温回火,将淬火后的铬钨锰钢板置于回火炉中,回火温度为200℃,回火保温时间120min;
(4)机械磨削铬钨锰钢板
将高温淬火及回火的铬钨锰钢板用机械平面磨床磨削六面,各面垂直,表面粗糙度Ra0.08-1.6μm;
(5)研磨铬钨锰钢板
将磨削后的铬钨锰钢板,用600粒的研磨粉研磨铬钨锰钢板工作表面,表面粗糙度Ra0.02-0.04μm;
(6)超声波清洗铬钨锰钢板、铬快、铝快
将研磨后的铬钨锰钢板置于超声波清洗器中,加入丙酮2000ml,超声清洗20min,然后用去离子水清洗,晾干,放入真空室,备用;
将两个铬块置于超声波清洗器中,加入丙酮2000ml,超声清洗20min,然后用去离子水清洗,晾干,放入真空室,备用;
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