[发明专利]硅基高效双结太阳能电池的制造方法有效
| 申请号: | 200910056915.3 | 申请日: | 2009-02-27 |
| 公开(公告)号: | CN101521248A | 公开(公告)日: | 2009-09-02 |
| 发明(设计)人: | 韩新江;张根发;苏青峰;杨文平 | 申请(专利权)人: | 上海联孚新能源科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所 | 代理人: | 王建国 |
| 地址: | 201201上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 高效 太阳能电池 制造 方法 | ||
1.一种硅基高效双结太阳能电池的制造方法,所述太阳能电池结构为Si/GaAs双层结构,基底电池为Si的PN结电池、顶层电池为GaAs的PN结电池,顶层电池直接外延生长在硅电池衬底上,其特征在于:
该方法具有以下工艺步骤
a.在磁场下采用化学腐蚀的方法在单晶硅片表面生长致密均匀的绒面,再在高温扩散炉中扩散形成PN结形成底层电池,刻蚀后再清洗去掉硅片表面的磷硅玻璃;
b.在制备好PN结的硅片N型面上使用MBE外延生长GaAs电池:先生长N型重掺杂的GaInP窗口层;接着生长N型重掺杂GaAs层,再生长P型重掺杂GaAs层,形成隧道结;先生长P型重掺杂的GaInP作为GaAs电池的背场,生长P型重掺杂的GaAs基底层,生长N型重掺杂的GaAs发射层,生长N型重掺杂的GaInP窗口层,最后生长N型重掺杂的GaAs接触层用作欧姆接触,形成顶层电池;
c.在制备好PN结GaAs电池表面蒸镀减反射膜;
d.使用丝网印刷机在双层电池的硅片P型面制备形成电池的背电极和背电场,印刷的背电极和背电场构成底层电极经烧结后形成欧姆接触;
e.使用磁控溅射仪在电池的顶层制备顶层电极,在双层电池的GaAs层的N型面溅射金属电极形成欧姆接触;
f.获得高效多结太阳能电池。
2.根据权利要求1所述的硅基高效双结太阳能电池的制造方法,其特征在于:
所述步骤a中磁场下采用化学腐蚀的方法在单晶硅片表面生长致密均匀的绒面是指:将单晶硅片放入配好反应液的绒面制备反应器中使其反应,同时将绒面制备反应器放置于10T以下磁场中,所述反应液的配比为:氢氧化钠或氢氧化钾质量百分数为0.05%~15%,乙醇或异丙醇的质量百分数为5%~30%,硅酸钠的质量百分数为0.05%~3%;反应液的温度保持在50℃~100℃,绒面制备时间10~45分钟。
3.根据权利要求1所述的硅基高效双结太阳能电池的制造方法,其特征在于:
所述步骤c中GaAs电池表面蒸镀减反射膜是指在GaAs电池的N型面上使用PECVD生长减反射膜SiNx或TiO2。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





