[发明专利]曝光装置以及器件制造方法有效
| 申请号: | 200910009745.3 | 申请日: | 2004-07-07 |
| 公开(公告)号: | CN101470362A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
| 发明(设计)人: | 木内彻;三宅寿弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B7/02;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 金春实 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 曝光 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
1.一种曝光装置,在投影光学系统的像面侧形成液体的液漫区 域,并经由所述投影光学系统和所述液体将图形曝光在衬底上,该曝 光装置的特征在于,具备:
以包围构成所述投影光学系统的多个光学部件中与所述液体接 触的光学部件的侧面或保持该光学部件的保持部件的侧面的方式设 置,并且具有液体供给口和液体回收口中的至少某一方的环状部件; 以及
阻止液体浸入所述光学部件的侧面或所述保持部件的侧面和所 述环状部件内侧面之间的第一密封部件。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述第一密封 部件具有可挠性。
3.如权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于,所述第一 密封部件形成为环状,且具有安装在所述侧面和所述环状部件中的任 意一方上的主体部,和经由铰链部连接在所述主体部上、并与另一方 接触的接触部。
4.如权利要求3所述的曝光装置,其特征在于,所述第一密封 部件中至少所述接触部具有可挠性。
5.如权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,所述第一密封 部件包括片状部件。
6.如权利要求5所述的曝光装置,其特征在于,所述第一密封 部件是疏液性的。
7.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述侧面和所 述环状部件的内侧面都是疏液性的。
8.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,具备阻止所述 光学部件和所述保持部件之间的气体的流通的第二密封部件。
9.如权利要求8所述的曝光装置,其特征在于,所述保持部件 保持所述光学部件以及所述多个光学部件;
所述第二密封部件阻止保持所述多个光学部件的所述保持部件 的内部空间和外部之间的气体的流通。
10.如权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,所述保持部件 具有可动地支撑所述光学部件的支撑部;
所述第二密封部件设在所述支撑部附近。
11.如权利要求8至10中任一项所述的曝光装置,其特征在于, 所述第二密封部件具有:安装在所述光学部件和所述保持部件中的任 意一方上的主体部;和经由铰链部连接在所述主体部上、并与另一方 接触的接触部。
12.如权利要求11所述的曝光装置,其特征在于,所述第二密 封部件是可更换的。
13.如权利要求12所述的曝光装置,其特征在于,按照曝光光 的照射时间更换所述第二密封部件。
14.一种器件制造方法,其特征在于,使用权利要求1或9所述 的曝光装置。
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