[发明专利]曝光装置以及器件制造方法无效

专利信息
申请号: 200910009744.9 申请日: 2004-07-07
公开(公告)号: CN101470361A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 木内彻;三宅寿弘 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/02;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 金春实
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 以及 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,其特征在于,具备:

投影光学系统,包括与液体接触的光学部件以及与上述光学部件不同的多个光学元件;

镜筒主体,保持上述多个光学元件;

保持部件,保持上述光学部件;

驱动机构,设置在上述多个光学元件中的至少一个光学元件和上述镜筒主体之间,相对于上述镜筒主体向规定方向驱动上述光学元件;

连接机构,连接上述镜筒主体和上述保持部件,吸收经由上述光学部件以及上述保持部件传递到上述镜筒主体的振动。

2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于:

上述连接机构以相对于上述镜筒主体可变位的方式连接上述保持部件。

3.如权利要求2所述的曝光装置,其特征在于:

上述连接机构使上述保持部件和上述镜筒主体在振动上分离。

4.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于:

上述连接机构通过使上述保持部件相对于上述镜筒主体变位来吸收经由上述液体传递的振动。

5.如权利要求4所述的曝光装置,其特征在于:

上述连接机构将与上述液体接触的光学部件保持为至少在三个方向上可变位。

6.如权利要求5所述的曝光装置,其特征在于:

上述光学部件是具有光轴的透镜元件,

上述三个方向包括上述光轴方向和围绕与上述光轴正交的两个轴旋转的方向。

7.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于:

上述连接机构具有弹性部件。

8.如权利要求6所述的曝光装置,其特征在于:

上述弹性部件具有弯曲件。

9.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于:

上述连接机构具有减少上述保持部件的自重的自重消除机构。

10.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,具有:

第一检测器,检测上述保持部件与上述镜筒主体的相对位置关系。

11.如权利要求10所述的曝光装置,其特征在于,具有:

像调整机构,该像调整机构调整投影到上述衬底上的图形的像,

上述像调整机构基于上述第一检测器的检测结果来调整上述图形的像。

12.如权利要求11所述的曝光装置,其特征在于,具有:

第二检测器,检测上述光学部件和上述衬底的曝光面的位置关系,

上述像调整机构基于上述第二检测器的检测结果来调整上述图形的像。

13.一种器件制造方法,其特征在于:

使用权利要求1所述的曝光装置。

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