[发明专利]定影设备、成像装置、圆筒形旋转部件和介质传送设备有效
申请号: | 200910004254.X | 申请日: | 2009-02-18 |
公开(公告)号: | CN101533253A | 公开(公告)日: | 2009-09-16 |
发明(设计)人: | 石野正浩;上原康博;马场基文 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G15/20 | 分类号: | G03G15/20;G03G15/01 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 定影 设备 成像 装置 圆筒 旋转 部件 介质 传送 | ||
1.一种圆筒形旋转部件,所述圆筒形旋转部件在其被配置为与介质 接触的状态下在设备中得到旋转支撑,并且所述圆筒形旋转部件在其在 所述设备中得到支撑的状态下被加热,所述圆筒形旋转部件包括:
可弹性变形的基体,所述基体是在所述介质的宽度方向上延伸的金 属圆筒,所述宽度方向与所述介质的传送方向相交;和
保持部件,所述保持部件布置在所述基体的两个端部,所述保持部 件包含:
插入到所述基体的端部内侧的具有圆形外周的插入部分;和
布置在所述基体插入部分的介质的宽度方向上的外端的圆筒形的被 接受部分,其与所述插入部分一体化形成并且比所述插入部分更厚;
所述保持部件使所述端部在轴向上的截面形状保持为基本上为圆 形,
配置所述基体使得:
当所述基体被旋转并且所述基体的一部分到达所述基体与所述介质 相接触处的接触部分时,所述基体的所述部分在不必提供在所述接触部 分中从内部接触所述基体的内表面的部件的条件下发生弹性变形,对所 述介质施加压力,提高与所述介质的接触面积的大小并对所述介质施加 热量;和
在所述基体被进一步旋转并且所述基体的所述部分已经通过所述接 触部分之后,所述基体弹性地恢复其原始形状。
2.一种介质传送设备,所述介质传送设备包括:
在其上传送所述介质的介质传送通道;和
介质传送部件,所述介质传送部件布置在所述介质传送通道上并且 旋转以便传送介质,将所述介质传送部件配置为圆筒形旋转部件,所述 圆筒形旋转部件在其被配置为与所述介质相接触的状态下在设备中得到 旋转支撑,并且所述圆筒形旋转部件在其在所述设备中得到支撑的状态 下被加热,所述圆筒形旋转部件包括:可弹性变形的基体,所述基体是 在所述介质的宽度方向上延伸的金属圆筒,所述宽度方向与所述介质的 传送方向相交;和保持部件,所述保持部件布置在所述基体的两个端部, 所述保持部件包含:插入到所述基体的端部内侧的具有圆形外周的插入 部分;和布置在所述基体插入部分的介质的宽度方向上的外端的圆筒形 的被接受部分,其与所述插入部分一体化形成并且比所述插入部分更厚; 所述保持部件使所述端部在轴向上的截面形状保持为基本上为圆形,配 置所述基体使得:当所述基体被旋转并且所述基体的一部分到达所述基 体与所述介质相接触处的接触部分时,所述基体的所述部分在不必提供 在所述接触部分中从内部接触所述基体的内表面的部件的条件下发生弹 性变形,对所述介质施加压力,提高与所述介质的接触面积的大小并对 所述介质施加热量;并且在所述基体被进一步旋转并且所述基体的所述 部分已经通过所述接触部分之后,所述基体弹性地恢复其原始形状。
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