[发明专利]磁场产生件及其制造方法,磁性粒子保持体、显影装置、处理盒和成象设备有效

专利信息
申请号: 200910001353.2 申请日: 2009-01-07
公开(公告)号: CN101552080A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 高野善之;肥塚恭太;神谷纪行;大泽正幸;寺嶋美惠子;铃木励;阿部纮也;印南崇;服部忠明 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 王 冉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 磁场 产生 及其 制造 方法 磁性 粒子 保持 显影 装置 处理 成象 设备
【权利要求书】:

1.一种磁场产生件,包括:

主体;

设置在所述主体中的凹槽;

插入件,该插入件被配置成以配合在所述主体的所述凹槽中并包括下 凹部分;和

磁性件,该磁性件被固定到所述插入件的所述下凹部分中;

所述插入件具有“U”字符形状的侧截面并被配置成以通过挤压配合而 被固定在设置于所述主体中的所述凹槽中,

所述磁性件是长型磁性压块并被配置成以通过挤压配合而被固定在所 述插入件的所述下凹部分中,

设置在所述主体中的所述凹槽包括一对侧面,

该对侧面包括一对直立表面,该对直立表面被成形为与在设置于所述 主体中的所述凹槽的开口部分附近相互平行,以及一对锥形表面,其被成 形为以使得该对锥形表面之间的相互间隔从所述直立表面的下端向着设置 在所述主体中的所述凹槽的底面越来越靠近所述底面逐渐变窄,

所述插入件包括一对壁部分,

在所述插入件中的该对壁部分的外表面分别紧密接触该对锥形表面, 以及该对壁部分的上端被分别成形为以定位在所述直立表面和所述锥形表 面之间的边界中。

2.如权利要求1所述的磁场产生件,还包括:

设置在所述插入件中的该对壁部分的外表面上的一个或多个楔形凹 槽,其中,

所述外表面上的所述楔形凹槽被定向成从该对壁部分的外表面上的上 端朝向下端并被成形为以在其中形成锐角,以及

该对壁部分的外表面被分别成形为以紧密接触设置在所述主体中的所 述凹槽的该对侧面。

3.一种磁场产生件,包括:

主体;

设置在所述主体中的凹槽;

插入件,该插入件被配置成以配合在所述主体的所述凹槽中并包括下 凹部分;和

磁性件,该磁性件被固定到所述插入件的所述下凹部分中;

所述插入件具有“U”字符形状的侧截面,其包括一对壁部分并被配置成 以通过挤压配合而被固定在设置于所述主体中的所述凹槽中,

所述磁性件是长型磁性压块并被配置成以通过挤压配合而被固定在所 述插入件的所述下凹部分中,

一个或多个楔形凹槽设置在所述插入件中的该对壁部分的外表面上,

所述外表面的楔形凹槽在该对壁部分的外表面上从上端朝向下端导引 并且其形状形成锐角,该对壁部分的外表面分别形成为紧密地接触设置在 所述主体中的凹槽的一对侧面,所述插入件的该对壁部分相对于所述插入 件的底部被成形为以形成大于90度的角度。

4.如权利要求1所述的磁场产生件,还包括:

设置在所述插入件中的该对壁部分的内表面中的一个或多个楔形凹 槽,其中,

所述内表面的楔形凹槽被定向成从该对壁部分的内表面上的下端朝向 上端并被成形为以在其中形成锐角,以及

该对壁部分的内表面被分别成形为以紧密接触所述长型磁性压块的表 面。

5.如权利要求1所述的磁场产生件,其中

在设置在所述主体中的所述凹槽中,所述凹槽的底面的宽度被成形为 以大于所述凹槽的开口的宽度,以及

当所述插入件被挤压配合到设置在所述主体中的所述凹槽中时,所述 插入件的底部的宽度被成形为以大于设置在所述主体中的所述凹槽的开口 部分的宽度。

6.如权利要求1所述的磁场产生件,其中

所述插入件利用非磁性材料成形。

7.如权利要求6所述的磁场产生件,其中

所述插入件利用非磁性金属成形。

8.如权利要求1所述的磁场产生件,其中,

在大致平行于设置在所述主体中的所述凹槽的底面并且大致垂直于所 述主体的轴向方向的方向施加磁场以提供磁各向异性,以及

变换磁力的磁极的点从而产生在所述凹槽的所述开口部分附近。

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