[发明专利]荧光体无效
| 申请号: | 200880104304.5 | 申请日: | 2008-08-25 |
| 公开(公告)号: | CN101784637A | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
| 发明(设计)人: | 伊藤丰;大观光德;山根明;小林笃史;国本崇 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;国立大学法人鸟取大学 |
| 主分类号: | C09K11/86 | 分类号: | C09K11/86;C09K11/08;H01J1/63;H01J11/02;H01J29/20;H01J31/12;H01J61/44 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 荧光 | ||
1.一种荧光体,由M1、M2、M3、M4、卤素及O构成(在此,M1表示碱土类金属元素,M2表示三价金属元素,M3表示付活元素,M4表示四价的金属元素),其中,M1∶(M2+M3)∶M4∶卤素的摩尔比为1∶4∶3∶a(在此,a为0.01以上3以下范围的值)。
2.如权利要求1所述的荧光体,其中,M1含有Ba。
3.如权利要求1或2所述的荧光体,其中,M2含有Gd。
4.如权利要求1~3中任一项所述的荧光体,其中,M3含有Tb。
5.如权利要求1~4中任一项所述的荧光体,其中,M4含有Si。
6.如权利要求1~5中任一项所述的荧光体,其中,卤素为F。
7.如权利要求1~6中任一项所述的荧光体,其中,a为1以上2以下的范围。
8.一种荧光体的制造方法,是权利要求1所述荧光体的制造方法,对金属化合物混合物进行烧结,该金属化合物混合物是含有M1、M2、M3、M4及卤素的金属化合物混合物(在此,M1表示碱土类金属元素,M2表示三价金属元素,M3表示付活元素,M4表示四价的金属元素),且含有选自由M1的卤化物、M2的卤化物及M3的卤化物构成的组中的一种以上的卤化物。
9.如权利要求8所述的荧光体的制造方法,其中,烧结时的保持温度是950℃以上1050℃以下的温度。
10.一种荧光体,是通过权利要求8或9记载的制造方法所得到的荧光体。
11.一种荧光体浆料,其特征在于,具有权利要求1~7中任一项或权利要求10所述的荧光体。
12.一种荧光体层,将权利要求11所述的荧光体浆料涂敷在基板上后通过热处理而得到。
13.一种发光元件,其具有权利要求1~7中任一项或权利要求10所述的荧光体。
14.一种真空紫外线激励发光元件,其具有权利要求1~7中任一项或权利要求10所述的荧光体。
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