[发明专利]荧光体的表面处理方法及平面显示装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及例如等离子体显示器及场致发射显示器等平面显示装置的制造方法，及其所用的荧光体的处理方法。

背景技术

随着多媒体时代的到来，对作为数字网络的核心机器的显示装置，要求其大画面化和高精细化、对计算机等多种源的对应性等。

显示装置中，使用场致发射型冷阴极元件等电子发射元件的场致发射型显示装置(Field Emission Display；FED)作为可致密地、高精细地显示各种信息的大画面、薄型的数字设备，近年来正进行着热烈的研究、开发。

FED的基本显示原理与阴极射线管(CRT)相同，都是由电子射线激发荧光体使其发光，但FED的电子射线的加速电压(激发电压)与CRT相比更低，而且电子射线的电流密度较低，并且电子射线的照射时间长数μs左右。

因此，如果将规定的辉度寿命换算成每单位面积的投入电荷量，则FED与CRT相比有所增加，所以现状是例如日本专利特开2002-226847号公报所揭示的，使用CRT用的荧光体是无法得到足够的发光辉度和寿命的。

即，要求开发出即使投入电荷量与以往的CRT相比有所增加，也可充分地维持初期的发光特性的牢固的长寿命荧光体。

然而，现状是该FED中不存在发光特性凌驾于以往的CRT用荧光体之上的荧光体，将CRT用荧光体改良成FED用可以说是重要的课题。

发明的揭示

本发明是鉴于上述事实完成的发明，其目的是得到高辉度及长寿命的平面显示装置用荧光体，及提供简便、且以低成本制造具有高辉度及长寿命的荧光层的平面显示装置的方法。

本发明的荧光体的表面处理方法的特征在于，具有如下工序：使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子。

本发明的平面显示装置的制造方法的特征在于，具有：在溶液中使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，调制包含表面形成了有机酸金属盐层的荧光体粒子的荧光体涂布液，使用该荧光体涂布液在形成有遮光层的透明基板上形成荧光体涂布层的工序，该遮光层具有多个框状或条状的图案；烧成该荧光体涂布层的同时，将上述有机酸金属盐中的有机成分烧去，形成荧光体层的工序，该荧光体层含有表面形成有金属氧化物层的荧光体粒子；及在荧光体层上形成金属壳(metal back)层的工序。

对附图的简单说明

图1是表示利用本发明的方法进行表面处理后的荧光体粒子的模式图。

图2是表示在荧光体粒子表面形成金属氧化物层的形态的模式截面图。

图3是表示作为使用本发明的荧光体而得到的显示装置的FED的一例的立体图。

图4是表示图3的A-A截面图。

图5是表示发光特性测定用的样品的模式图。

图6是表示实施例1、2的发光辉度评价结果的图。

图7是表示实施例1、2的发光寿命评价结果的图。

图8是表示实施例3、4的发光辉度评价结果的图。

图9是表示实施例3、4的发光寿命评价结果的图。

实施发明的最佳方式

本发明的荧光体的表面处理方法中，使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子，该有机酸金属盐是如果进行烧成就会生成金属氧化物的有机酸金属盐。

此外，本发明的平面显示装置的制造方法是将上述荧光体的表面处理方法用于平面显示装置的制造方法的例子，具有：在溶液中使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，调制包含表面形成了有机酸金属盐层的荧光体粒子的荧光体涂布液，使用荧光体涂布液在形成有遮光层的透明基板上形成荧光体涂布层的工序，该遮光层具有多个框状或条状的图案；烧成该荧光体涂布层的同时，将上述有机酸金属盐中的有机成分烧去，形成荧光体层的工序，该荧光体层含有形成有金属氧化物层的荧光体粒子；及在荧光体层上形成金属壳层的工序。

上述荧光体的表面处理方法及平面显示装置的制造方法中，使用在其表面的至少一部分形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子。该荧光体粒子可用于形成荧光体层。之后，所得荧光体层被供至烧成工序。此时，有机酸金属盐中的有机成分被烧去，金属被氧化，所以有机酸金属盐层在烧成后成为金属氧化物层。

利用本发明，通过使用在其表面的至少一部分形成有金属氧化物的荧光体粒子，可得到高辉度及长寿命的荧光层。