[发明专利]荧光体的表面处理方法及平面显示装置的制造方法无效
申请号: | 200880000209.0 | 申请日: | 2008-02-12 |
公开(公告)号: | CN101541917A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 石井启太;青木克之 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | C09K11/08 | 分类号: | C09K11/08;H01J9/227 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 冯 雅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 表面 处理 方法 平面 显示装置 制造 | ||
1.一种荧光体的表面处理方法,其特征在于,具有如下工序:使有机酸金属盐与荧光体粒子接触,从而使有机酸金属盐附着,形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子。
2.如权利要求1所述的荧光体的表面处理方法,其特征在于,所述有机酸金属盐所用的金属选自镁、钙、锶、钡、钇、镧、钆。
3.如权利要求1所述的荧光体的表面处理方法,其特征在于,所述有机酸金属盐所用的有机酸选自辛酸、月桂酸、硬脂酸、油酸、环烷酸及十二烷基苯磺酸。
4.如权利要求1所述的荧光体的表面处理方法,其特征在于,还包含如下工序:将所述设置有有机酸金属盐层的荧光体粒子加热处理至其有机成分烧去的温度以上的温度,形成表面形成有金属氧化物层的荧光体粒子。
5.一种平面显示装置的制造方法,其特征在于,具有:在溶液中使有机酸金属盐与荧光体粒子接触,从而使有机酸金属盐附着,调制包含表面形成了有机酸金属盐层的荧光体粒子的荧光体涂布液,使用该荧光体涂布液在形成有遮光层的透明基板上形成荧光体涂布层的工序,该遮光层具有多个框状或条状的图案;烧成该荧光体涂布层的同时,将所述有机酸金属盐中的有机成分烧去,形成荧光体层的工序,该荧光体层含有表面形成有金属氧化物层的荧光体粒子;及在荧光体层上形成金属壳层的工序。
6.如权利要求5所述的平面显示装置的制造方法,其特征在于,所述荧光体涂布液还含有粘合剂树脂,形成所述荧光体层的方法选自喷墨印刷、网板印刷、液体调色剂及旋涂法。
7.如权利要求5所述的平面显示装置的制造方法,其特征在于,所述有机酸金属盐所用的金属选自镁、钙、锶、钡、钇、镧、钆。
8.如权利要求5所述的平面显示装置的制造方法,其特征在于,所述有机酸金属盐所用的有机酸选自辛酸、月桂酸、硬脂酸、油酸、环烷酸及十二烷基苯磺酸。
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