[实用新型]一种等离子渗硫的硫源供给装置有效
申请号: | 200820233909.1 | 申请日: | 2008-12-30 |
公开(公告)号: | CN201321487Y | 公开(公告)日: | 2009-10-07 |
发明(设计)人: | 杨兴宽;于水波;彭明霞;余军 | 申请(专利权)人: | 中国铁道科学研究院金属及化学研究所 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王 勇 |
地址: | 100081*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子 供给 装置 | ||
1.一种硫源供给装置,包括硫罐(4),其特征在于,还包括冷却系统、加热系统、测温系统和控制系统;其中,
所述冷却系统围绕所述硫罐(4),并与所述控制系统相连接;
所述加热系统与所述硫罐(4)热连通,并与所述控制系统相连接;
所述测温系统的一端位于所述硫罐(4)内部,另一端与所述控制系统相连接。
2.根据权利要求1所述的硫源供给装置,其特征在于,所述硫罐(4)设置有测温腔(10)和加热腔(11),硫源腔。
3.根据权利要求2所述的硫源供给装置,其特征在于,所述加热系统包括加热元件和固态继电器(13),所述加热元件的一端位于所述加热腔(11)内,其另一端通过所述固态继电器(13)与所述控制系统相连接。
4.根据权利要求2所述的硫源供给装置,其特征在于,所述测温系统包括测温元件,该测温元件的一端位于所述测温腔(10)内,另一端与所述控制系统相连接。
5.根据权利要求2所述的硫源供给装置,其特征在于,所述加热腔(11)均匀分布在所述硫罐(4)的底部。
6.根据权利要求1所述的硫源供给装置,其特征在于,所述冷却系统包括冷却液层、冷却液进入管、冷却液流出管以及电磁水阀(16),其中所述冷却液层围绕所述硫罐(4),所述冷却液进入管和流出管与所述冷却液层相连接,并且所述冷却液进入管通过所述电磁水阀(16)与所述控制系统相连接。
7.根据权利要求1所述的硫源供给装置,其特征在于,所述控制系统包括可编程逻辑控制器(19)。
8.一种采用权利要求1至7之一所述的硫源供给装置的等离子渗硫装置,包括炉体(2),其特征在于,所述硫源供给装置与所述炉体(2)之间为密封连接。
9.根据权利要求8所述的等离子渗硫装置,其特征在于,所述硫源供给装置与所述炉体(2)之间为绝缘连接
10.根据权利要求9所述的等离子渗硫装置,其特征在于,所述硫源供给装置与所述炉体(2)通过绝缘法兰(8)连接。
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