[实用新型]一种刷抛光大盘用的刷子

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于刷硅片抛光大盘的刷子。

背景技术

在CMP技术快速发展的今天，对直接与产品接触的抛光布的要求越来越高，抛光布在与产品如(硅片)接触过程中，抛光布表面的质量严重影响到产品的抛光质量。所以很多使用抛光布的商家都不惜成本使用高档较为昂贵的抛光布来提高自己产品抛光质量。在CMP过程中，抛光布绒毛层携带的浆料与硅片反应，生成复杂的硅的氧化物残留在绒毛层内，长时间不刷盘就会使得抛光布绒毛层携带浆料能力下降，并在表面产生硬结，降低硅片表面的去除速率，俗称釉化现象。釉化现象的产生会缩短抛光布使用寿命，而抛光布寿命的长短严重影响了抛光成本的高低。所以，延长抛光布使用寿命，成为降低生产成本重要的途径。在抛光布使用一段时间后，使用盘刷刷洗抛光布，以保持抛光布绒毛层的清洁程度，成为延长抛光布使用寿命和提高产品质量的主要方法。目前，刷盘的主要方法是使用圆形刷子在一定的压力和转速下对大盘进行刷洗。此方法能消除抛光过程带来的釉化现象，但是不能很好的去除抛光布绒毛层内的杂质，如果加长刷时间，会对抛光布的表层有一定的磨损。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种刷抛光大盘用的刷子，该刷子结构简单实用，克服了现有的盘刷对抛光布绒毛层杂质清除效果弱的缺点，从而提高清洗效率，提高硅片的制备性能与成品率。

为达到上述发明目的，本实用新型采用以下技术方案：

这种刷抛光大盘用的刷子，它包括：刷体、刷体的上部为机械手部分，刷体下部为一盘，盘的端面上置有刷毛，盘的周边设有高压喷嘴，刷体内有一供进高压水的水管，高压喷嘴与水管连通。

所述刷体下部盘的横断面为圆形。

盘周边的高压喷嘴数量为一个或二个。

本实用新型的优点是该装置结构紧凑，操作简便，可由机器程序自动控制高压水冲洗时间和时机。既可以消除抛光后大盘的釉化现象，又可以有效地去除抛光布表面绒毛层内的杂质，从而提高加工后的产品的表面质量，提高硅片的制备性能与成品率。

附图说明

图1：用普通刷刷抛光大盘的状态示意图

图2：本实用新型提供的刷大盘刷子示意图

图3：本实用新型使用状态示意图

具体实施方式

图1、图2、图3中，6为向抛硅片大盘表面添加的抛光液或纯净水，7为抛硅片大盘，已有的普通刷包括：刷体上部的机械手部分1，刷体下面的盘2，刷毛3，4为高压去离子水喷嘴、8为外置高压水泵、以及5为供进高压去离子水的水管5，喷嘴4与水管5连通。

所述的高压喷嘴安装在盘的周边，高压去离子水由外置高压水泵提供，可在刷盘时或刷盘后用高压水冲洗抛光布。也可由机器程序自动控制高压水冲洗时间和时机。所述的高压喷嘴在刷盘时水压是0.1～10MPa。