[实用新型]制冷装置有效
| 申请号: | 200820096136.7 | 申请日: | 2008-07-31 |
| 公开(公告)号: | CN201262497Y | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
| 发明(设计)人: | 李达华;廖大慈 | 申请(专利权)人: | 美固电子(深圳)有限公司 |
| 主分类号: | F25B21/02 | 分类号: | F25B21/02 |
| 代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 | 代理人: | 高占元 |
| 地址: | 518033广东省深圳市福田区福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制冷 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及制冷领域,更具体地说,涉及一种利用半导体导电产生制冷作用的制冷装置。
背景技术
如图1所示为现有制冷装置示意图,制冷装置包括直流电源、电源线、制冷板,其中制冷板包括与所述直流电源串联的若干“N”型半导体10及“P”型半导体12、连接件13、连接件15和绝缘导热陶瓷片,直流电源产生的电流通过连接件13、连接件15(铜连接片)以串联方式依次流过制冷片内部的多个“N”型半导体10和“P”型半导体12,根据珀尔帖效应:当直流电通过由两种不同材料构成的回路时,其相应的结点上将呈现出“吸热”或“放热”的现象。本图中,电流方向是从“N”向“P”流通,其上方的所有结点(即上方的铜连接片)都是N--P结点,将产生“吸热”现象,而下方的所有结点(即下方的铜连接片)都是P--N结点,将出现“放热”现象。
由图1中可知,固定到上方陶瓷片20上的所有铜连接片13都是会出现“吸热”现象的结点,固定到下方陶瓷片11上的所有铜连接片15都是会出现“放热”现象的结点。这样,上方的陶瓷片20所构成的平面为“吸热”面,下方的陶瓷片11所构成的平面为“放热”面。这种“冷”、“热”面相对于内部“吸热”、“放热”结点的连接方式即为热性能上的“共聚”,或称为热性能上的“并联”。
普通的热电制冷片就是由更多的“P”、“N”型半导体通过铜连接片和绝缘导热陶瓷片的连接方法,实现其电性能上的“串联”和热性能上的“并联”连接而制成的。
表1
表2
如图2至4及表1、表2所示,现有的“N”型和“P”型半导体的外形皆为相同的长方体,并且是采用碲化铋制造而成,其横截面积S和高度L的取值范围分别为1.6197平方毫米至1.6724平方毫米和2.0225毫米至2.0625毫米,其制冷效率分别为11.99%和13.19%。近年来碲和铋的价格飞涨了十几倍,使生产这种制冷装置的成本不断上升。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述由于碲和铋材料价格飞涨缺陷,提供一种可以减少用料而制冷性能不变的制冷装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种制冷装置,包括直流电源、与所述直流电源串联的“N”型半导体及“P”型半导体,所述“N”型半导体及“P”型半导体相互间隔串联,所述“N”型半导体与所述“P”型半导体为外形相同的长方体。所述“N”型半导体的截面面积的取值范围为0.8096平方毫米至1.4020平方毫米,所述“N”型半导体的高度的取值范围为1.012毫米至1.7528毫米。
在本实用新型所述的制冷装置中,所述“N”型半导体的截面面积的取值范围为0.8096平方毫米至1.1282平方毫米,所述“N”型半导体的高度的取值范围为1.1012毫米至1.4205毫米。
在本实用新型所述的制冷装置中,所述“N”型半导体的截面面积为1.1282mm2,所述“N”型半导体的高度为1.4205毫米。
在本实用新型所述的制冷装置中,所述“N”型半导体的截面面积为0.8096平方毫米,所述“N”型半导体的高度为1.012毫米。
在本实用新型所述的制冷装置中,所述“N”型半导体的截面面积为1.4020平方毫米,所述“N”型半导体的高度为1.7528毫米。
在本实用新型所述的制冷装置中,所述连接件为铜连接片。
在本实用新型所述的制冷装置中,所述“N”型半导体或所述“P”型半导体的外端设置有绝缘导热陶瓷片。
实施本实用新型的制冷装置,具有以下有益效果:
本实用新型的制冷装置通过把“N”型半导体与所述“P”型半导体的截面面积的取值范围为0.8096平方毫米至1.4020平方毫米,所述“N”型半导体或“P”型半导体的高度的取值范围为1.012毫米至1.7528毫米。减少了材料的使用,而制冷效果不变,使产品成本降低。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:
图1是现有技术和本实用新型制冷装置的结构示意图;
图2是现有技术和本实用新型的制冷板的正视示意图;
图3是图2的俯视示意图;
图4是现有技术和本实用新型的制冷板中的“P”型半导体或“N”型半导体的立体示意图。
具体实施方式
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