[实用新型]基片集成波导的双频缝隙天线无效

专利信息
申请号: 200820030891.5 申请日: 2008-01-15
公开(公告)号: CN201178135Y 公开(公告)日: 2009-01-07
发明(设计)人: 洪伟;曾志雄;蒯振起;陈继新;汤红军;余晨 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01Q13/10 分类号: H01Q13/10;H01Q13/08;H01Q1/38
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 叶连生
地址: 21009*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成 波导 双频 缝隙 天线
【说明书】:

所属领域

本实用新型涉及一种工作在双频段的基片集成天线,该天线采用基片集成波导 (Substrate Integrated Waveguide SIW)技术,特别适合于需要工作在间隔较大 的两个频段且对天线体积大小有限制的无线通信系统。

背景技术

传统金属矩形波导缝隙阵列天线具有主瓣宽度窄、方向图可以赋形、交叉极化 电平低等特点,在雷达和无线通信系统中有着广泛的应用。然而,矩形波导缝隙阵 列天线体积较庞大,加工成本高,不适合与现代平面电路集成。为适应系统集成和 设备轻量化的要求,人们提出了多种适合平面印刷工艺的天线技术,其中包括各种 微带天线和印刷形式的天线。这些技术虽然较好地解决了与电路集成的要求,但也 存在着诸如功率容量小、交叉极化电平高等问题。基片集成波导缝隙天线同时具有 传统金属矩形波导缝隙天线和平面印刷工艺的天线的优点,能够和现代平面电路集 成于同一块介质基片中,可以利用成熟的PCB技术加工,设计成本和生产成本低廉, 非常适合大规模生产。

随着个人无线通信技术和无线局域网技术的发展,很多的无线通信系统需要在 间隔较大的两个频段内传输信号。如果为了实现双频段工作而采用两副天线,则为 了减小它们之间的遮挡和干扰需要加大其安装的间距,这无疑会加大系统占用的空 间,而现代无线通信技术要求系统占用的空间越小越好。为此这里提出了一种基于 基片集成波导缝隙天线技术的双频天线,这种天线在两个工作频段内辐射特性基本 上相互独立。

发明内容

技术问题:本实用新型的目的是提出一种基片集成波导的双频缝隙阵列天线, 具有在两个工作频段方向图相互独立,易于组阵实现高增益,交叉极化低、损耗小、 体积小、成本低、便于批量生产、易于和平面电路集成等优点。

技术方案:本实用新型的基片集成波导的双频天线具有在两个工作频段方向图 相互独立,易于组阵实现高增益,交叉极化低、损耗小、体积小、成本低、便于批 量生产、易于和平面电路集成等优点,非常适合用于工作在双频的个人无线通信系 统和无线网络接入系统。

本实用新型的基片集成波导的双频缝隙阵列天线制作在一块介质基片上,在介 质基片的上表面敷有第一上表面金属贴片、第二上表面金属贴片,下表面敷有第一 下表面金属贴片、第二下表面金属贴片和贯穿于上下两层金属面的金属化通孔阵列 围成基片集成波导,基片集成波导由第一金属化通孔所围部分为第一波导、由第二 金属化通孔所围部分为第二波导、由第三金属化通孔所围部分为第三波导三个部分 顺序连接构成,第一波导的末端是第四金属化通孔;在第一波导中的上金属表面中 心线的两侧分别设有工作在高频段的第一缝隙阵列,第三波导中的上金属表面中心 线上设有工作在低频段的第二缝隙阵列,在第二缝隙阵列的两侧交替的设有一个金 属化通孔;第三波导的一端通过一段渐变微带线与直微带线相连。

第一波导和第三波导所对应的介质基片的下表面设有与上表面的第一缝隙阵 列、第二缝隙阵列完全对应的第三缝隙阵列、第四缝隙阵列以实现全向天线。

有益效果:本实用新型具有如下优点:

1.这种天线能够工作在两个频段,且两个频段可以间隔很大,同时它们的方 向图相互独立。

2.这种天线易于和平面电路集成。因为这种天线阵列完全在介质基片上利用 金属通孔实现,全部可以利用PCB工艺生产,成本低、精度高、重复性好,适合大 批量生产。

3.这种天线具有较低的损耗,可以实现较高的增益。

附图说明

图1是本实用新型基片集成波导的双频缝隙阵列天线的正面结构示意图。

图2是本实用新型基片集成波导的双频缝隙阵列天线的背面结构示意图。其中 图2a为背面开缝组成全向天线的结构示意图;图2b为背面不开缝组成单向天线的 结构示意图。

图3是本实用新型实施例天线的结构示意图。其中图3a是正面结构示意图, 图3b是背面结构示意图。

图4是本实用新型天线实物反射系数测试结果,

图5是本实用新型天线工作在2.46GHz时E面和H面方向图测试结果,

图6是本实用新型天线工作在3.5GHz时E面和H面方向图测试结果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820030891.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top