[发明专利]光学镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于镀膜的光学镀膜装置。

背景技术

目前，光学薄膜广泛应用于光学仪器，如传感器、半导体镭射、干涉仪、眼镜以及光纤通讯组件等很多领域。光学薄膜通常是通过干涉作用而达到其预期效果，即在光学组件或独立基板上镀上一层或多层的介电质膜或金属膜来改变光波传输特性。

目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主，该方法为将镀材由固态转化为气态或离子态，气态或离子态的镀材由蒸发源穿越空间，抵达基板表面，材料抵达基板表面后，将沉积而逐渐形成薄膜，从而完成基板上镜片的镀膜。

在现有的光学镀膜设备中，通常会使用如图1中的真空镀膜装置1，该真空镀膜装置1包括真空镀膜室2、转动轴3、基板承载架4及蒸镀源5。基板承载架4及蒸镀源5均在所述真空镀膜室2内。所述转动轴3安装在所述真空镀膜室2顶部，所述基板承载架4用螺丝固定在转动轴3上，所述基板承载架4上装有多块基板6，所述基板6载有镜片7。所述蒸镀源5固定在所述真空镀膜室2底部，当给镜片7镀膜时，所述蒸镀源5将镀材M向所述基板承载架4上的镜片7进行蒸镀。

然而蒸镀时，由于所述基板承载架4及所述真空镀膜室2内壁之间存在间隙H，蒸发的镀材M会通过该间隙H进入到所述基板承载架4的背面4a所在的空间，污染位于所述基板承载架4背面4a上镜片7的表面，影响镜片7镀膜的品质。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种防止污染，提高镀膜品质的光学镀膜装置。

一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、转动轴、基板承载架及蒸镀源，所述基板承载架与所述转动轴连接并设置在所述真空镀膜室的顶部，所述蒸镀源设置在所述真空镀膜室的底部，一个滑槽环绕所述真空镀膜室内壁设置，基板承载架外边缘延伸一环形凸缘，该环形凸缘伸入所述滑槽内。

本发明所提供的光学镀膜装置，由于基板承载架外边缘延伸出一环形凸缘，并伸入真空镀膜室内壁上的凹槽内，隔离了基板承载架正反面的空间，所以有效的防止镀膜过程中，镀材污染基板承载架背面镜片表面的情况发生，从而改善镜片的镀膜品质。

附图说明

图1是现有技术提供的光学镀膜装置的示意图。

图2是本发明第一实施方式提供的光学镀膜装置的示意图。

图3是本发明第二实施方式提供的光学镀膜装置的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图2，本发明第一实施方式提供了一种光学镀膜装置100。该光学镀膜装置100包括真空镀膜室10、转动轴20、基板承载架30及蒸镀源40。

所述真空镀膜室10内壁13上设置有环绕所述内壁13的滑槽14。本实施方式是在所述内壁13上直接加工出一个凹槽。

所述蒸镀源40固定在所述真空镀膜室10的底部12。所述转动轴20安装在所述真空镀膜室10的顶部11，所述基板承载架30与所述转动轴20固定连接。本实施方式中采用螺丝将所述基板承载架30连接于所述转动轴20上。所述基板承载架30上装有多块基板60，所述基板60载有镜片70。所述基板承载架30具有第一表面31及环形凸缘33。所述第一表面31与所述蒸镀源40相对。所述环形凸缘33由所述基板承载架30外缘延伸形成。所述环形凸缘33上安装有滑动件50。所述滑动件50可以是滚轮、滚珠或滚动轴承，本实施方式中，采用八个滚轮对称安装于所述环形凸缘33上。所述滑动件50可以在所述滑槽14内滑动。本实施方式中，所述环形凸缘33及所述滑动件50均伸入所述滑槽14内。所述滑动件50不但避免了所述环形凸缘33与所述滑槽14之间的直接摩擦，而且使得基板承载架30转动时更加平稳。可以理解，所述环形凸缘33上也可以不安装滑动件50，而是与所述滑槽14之间采用不直接接触的方式，留有一间隙。

请参阅图3，本发明第二实施方式提供的光学镀膜装置200与第一实施方式提供的光学镀膜装置100基本相同，其不同之处在于：一个环形滑轨160固定在真空镀膜室110内壁113上，所述环形滑轨160环绕所述真空镀膜室110内壁113。所述环形滑轨160可以与所述内壁113一体成型，也可以采用与所述内壁113分离的结构，然后利用机械或化学的方式安装到所述内壁113上。本实施方式中，所述环形滑轨160与所述内壁113采用一体成型制成。滑槽114形成于环形滑轨160上。本实施方式中，在所述环形滑轨160上加工出滑槽114。环形凸缘133及滑动件150均伸入所述滑槽114内。