[发明专利]光学镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于镀膜的光学镀膜装置。

背景技术

目前，光学薄膜广泛应用于光学仪器，如传感器、半导体镭射、干涉仪、 眼镜以及光纤通讯组件等很多领域。光学薄膜通常是通过干涉作用而达到其 预期效果，即在光学组件或独立基板上镀上一层或多层的介电质膜或金属膜 来改变光波传输特性。

目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主，该方法为将薄膜材料由固 态转化为气态或离子态，气态或离子态的材料由蒸发源穿越空间，抵达基板 表面，材料抵达基板表面后，将沉积而逐渐形成薄膜。通常，为了制作高纯 度的薄膜，镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜，一般 做法为将基片以超音波洗净机洗净，洗净后排上夹具，送入镀膜机，进行加 热及抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪或电阻式加热， 将薄膜材料变成离子态，镀膜时间则视层数及程序不同而有长短。镀膜完毕 后，待温度冷却后取出。

在现有的光学镀膜设备中，通常会使用多个螺丝将基板承载架固定在转 动轴上。然而每次基板承载架固定在转动轴上或拆下时，均需要对多个螺丝 进行拧紧与拆卸。当螺丝与螺孔之间产生磨损或安装螺丝的力度不均时，容 易产生基板承载架相对转动轴的倾斜，从而影响镀膜质量。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种提高镀膜质量的光学镀膜装置。

一种光学镀膜装置，其包括转动轴、基板承载架及卡环。所述转动轴一 端具有第一凸缘，所述基板承载架具有第二凸缘。沿所述卡环内环面设置有 凹槽，所述第一凸缘及第二凸缘容置于所述凹槽内，所述卡环包括相互连接 的第一半环及第二半环。

本发明所提供的光学镀膜装置，通过将转动轴及基板承载架的两个凸缘 卡合到卡环的凹槽，从而保证基板承载架相对转动轴连接平稳，不易发生倾 斜。

附图说明

图1是本发明第一实施方式提供的光学镀膜装置的示意图。

图2是图1的光学镀膜装置的分解示意图。

图3是本发明第二实施方式提供的光学镀膜装置的分解示意图。

图4是本发明第三实施方式提供的光学镀膜装置的分解示意图。

图5是本发明第四实施方式提供的光学镀膜装置的分解示意图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1，本发明第一实施方式提供一种光学镀膜装置100。该光学 镀膜装置100包括卡环10、转动轴20及基板承载架30。

请参阅图2，所述卡环10内环面10a具有一个凹槽10b。所述卡环10 凹槽10b可以是圆形、椭圆形或正多边形等几何形状。本实施方式中，所述 卡环10为圆形，为了利于传递扭矩及受力均匀，所述凹槽10b采用正八边 形，所述卡环10包括第一半环11及第二半环12。所述第一半环11具有第 一端11a及第二端11b。所述第二半环12具有第三端12a及第四端12b。所 述第一端11a及第三端12a相铰接。本实施方式中，将第一端11a及第三端 12a利用铰链40连接。所述第二端11b及第四端12b可以分别装有极性相反 的磁性物质，或是一种磁性物质及一种铁、镍等金属，或是具有相配合的卡 槽及卡勾等用于卡合的结构。本实施方式中，采用在所述第二端11b及第四 端12b分别装有极性相反的磁体。在其他实施方式中，所述第一半环11及 第二半环12的两端也可均采用磁性的方式吸合或均采用卡合的方式连接。

所述转动轴20的一端21具有第一凸缘21a。所述基板承载架30的顶端 31具有一个第二凸缘31a。所述第一凸缘21a及第二凸缘31a均容置于所述 凹槽10b内。所述第一凸缘21a及所述第二凸缘31a的外周与所述凹槽10b 的槽底相配合。所述第一凸缘21a及所述第二凸缘31a的形状可以是盘形或 块状，其外周几何形状可以是圆形、椭圆形或正多边形等几何形状。本实施 方式中，所述第一凸缘21a及所述第二凸缘31a的形状均为与所述凹槽10b 相配合的外周为正八边形的盘型结构。所述第一凸缘21a的厚度H1及第二 凸缘31a的厚度H2的和与所述凹槽10b的槽宽L相当。