[发明专利]多维度光学控制装置及多维度光学控制方法有效
申请号: | 200810215382.4 | 申请日: | 2008-09-11 |
公开(公告)号: | CN101673147A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 蔡孟哲;王雍行;林柏衡;陈佳旭;詹启锋 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G06F3/03 | 分类号: | G06F3/03;G06F3/038 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多维 光学 控制 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光学控制装置,且特别是涉及一种多维度光学控制装 置。
背景技术
应用于现有数字创作、工业设计或相关电子产品等的控制方式,如:键 盘、鼠标、触碰面板等平面控制装置,随科技工业的发达与相关产品的发展, 当使用者需要以空间六个维度控制时,现有平面的控制装置,已无法满足使 用者所需,必须搭配其它控制装置,如:按钮、键盘等,才得以完成空间六 个维度的控制功能,不但增加控制的困难度,长时间使用手腕关节容易疲劳, 甚至造成伤害;此外,以平面替代空间的控制方式,并非人体直觉控制方式, 往往造成误判或是错误。为了克服上述问题,本发明提出一种简单且符合人 体直觉化的空间六个维度的控制装置。
US7,081,884在说明一个计算机的输入装置,除可输入XY平面上的X、 Y轴的移动信号外,亦可以输入XY平面沿Z轴的旋转方向等共三个维度的 输入装置。但US7,081,884必须应用在具有高反射率的表面上,使光源照射 在此表面后,透过透镜将由表面反射的光线聚集在光学传感器上,通过比对 影像变化,得知移动与旋转的位置。当应用表面的反射率不佳时,US 7,081,884上的光学传感器将无法感应,此外,需要另一按钮机构配合,告知 系统进行影像的位移判断或是旋转判定,使整体机构零件与体积增加。
US5,694,153至少需要利用两个固定距离的光源与有孔洞的挡板,透过 光学传感器感测两个固定距离光源的移动位置,透过三角函数演算原理,完 成四个维度的输入控制;当需要六个维度控制时,则需要再增加一个光源, 同样透过三角函数演算原理,完成六个维度的输入控制。由于至少需要使用 两个以上的光源,才得以完成多个维度的输入控制,因此多个光源的定位问 题、能耗、零件数量、体积与成本等问题,则成为其发展上的阻力。
US6,333,733在空间三个轴向,各装设光源、屏幕与光学传感器,通过 三个光源同时作动,完成空间控制功能,但US6,333,733需要多个光源、多 个屏幕,与光学传感器,因此能耗、零件数量、零件定位、体积等问题,为 其发展上不利的因素。
US2006/0086889A1则于空间中设置六个光源、六个夹缝挡板与六个光 学传感器,通过六个光源作动,完成空间控制功能,但US2006/0086889A1 需要六个光源、狭缝挡板与光学传感器,因此能耗、零件数量、零件定位、 体积问题,则为其发展上不利的因素。
US6,480,183则利用电容感应原理,感应动子导电体的作动情况,完成 平面位移与旋转控制功能,但由于利用电容感应方式,导电体与感应板的相 对位置受限,而无法直接进行空间控制功能。
US5,969,520透过多个磁性组件,感应磁球的作动情况,完成平面控制 功能;但磁球与磁性组件的相对位置,会影响磁性组件感测精确度,此外, 磁性组件易受外部导磁物干扰,影响位置判别,磁球亦会与外部导磁物,发 生相吸碰撞问题。
US6,774,887透过导体与电阻间的接触,完成平面控制功能,但导体与 电阻间容易受潮或氧化,发生接触不良的现象,且如需达成空间控制功能, 必须再装设其它导体与电阻,使得零件体积与成本增加。
发明内容
如上所述,本发明提供一种多维度光学控制装置,包括可动光源、透镜、 传感器以及数据处理电路。可动光源可受外在作用而移动,并用以产生光束。 透镜与可动光源耦接,将光束聚焦。传感器用以感测聚焦在传感器上的光斑。 数据处理电路耦接至传感器,用以取得光斑在传感器上的位置变化量、形状 变化量或光强度变化量,其中位置变化量、形状变化量或光强度变化量是相 对于参考光斑的位置、形状或光强度;又数据处理电路依据位置变化量、形 状变化量或光强度变化量,输出控制信号,以进行旋转或移动的多维度控制 动作。
另外,本发明提出一种多维度光学控制装置,包括固定光源、透镜、可 动反射组件、传感器以及数据处理电路。固定光源用以产生光束。透镜与固 定光源耦接,将光束聚焦。可动反射组件可受外在作用而移动,用以反射经 透镜聚焦的光束。传感器对反射的光束在传感器上所形成的光斑进行感测。 数据处理电路耦接至传感器,用以取得光斑在传感器上的位置变化量、形状 变化量或光强度变化量。其中位置变化量、形状变化量或光强度变化量是相 对于参考光斑的位置、形状或光强度;依据位置、形状或光强度的变化量, 输出控制信号,以进行旋转或移动的多维度控制动作。
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