[发明专利]向表面施加涂层的方法

权利要求书

1.一种向溅射靶或X-射线阳极表面施加涂层的冷喷涂方法，其中，气流与选 自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的至少两种的混合物、或者它们中的至少两 种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体-粉末混合物，所述粉末的 粒度为0.5-150μm，其中，将超音速赋予所述气流，并将该超音速的喷射口导向 物体的表面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，加入所述气体中的粉末的量保证 颗粒的流量密度为0.01-200g/s cm²。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷涂包括以下步骤：

-提供与要通过喷射涂覆的表面相邻的喷射口；

-向喷射口提供微粒材料的粉末，所述微粒材料选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、 它们中的至少两种的混合物、或者它们相互之间的合金或与其它金属的合金，所 述粉末的粒度为0.5-150μm，所述粉末处于压力下；

-在压力下将惰性气体提供到喷射口，以在喷射口处形成静压，并在要涂覆的 表面上喷射所述微粒材料和气体；以及

-将喷射口置于小于1个大气压，并且基本上小于喷射口处的静压的低压的区 域中，以充分加速所述微粒材料和气体喷射到要所述涂覆的表面上。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷涂用冷喷枪和要涂覆的靶 进行，所述冷喷枪置于压力小于80kPa的真空室内。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述气体-粉末混合物 中的粉末速度为300-2000m/s。

6.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述接合在物体表面 上的粉末颗粒形成涂层。

7.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述金属粉末中的气 体杂质的含量为200-2500ppm，以重量计。

8.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述金属粉末的氧含 量为小于1000ppm氧。

9.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述施加的涂层的氧 含量为小于1000ppm氧。

10.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述施加的涂层的 气体杂质含量与初始粉末中的含量的偏差不超过50％。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述施加的涂层的气体杂质含 量与初始粉末中的含量的偏差不超过20％。

12.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述施加的涂层的 氧含量与初始粉末的氧含量的偏差不超过5％。

13.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述施加的涂层的氧含量不超 过100ppm。

14.如权利要求8所述的方法，其特征在于，施加的金属涂层包含钽或铌。

15.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述涂层的厚度为 10μm-10mm。

16.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，通过在要涂覆的物 体的表面上冷喷涂，较佳是冷喷涂钽或铌层，来施加层。

17.如权利要求16所述的方法，其特征在于，制得的层的氧含量小于 1000ppm。

18.选自铌、钽、钨、钼、锆、钛、或者它们中的至少两种的合金或它们与 其它金属的合金的粉末材料在前述权利要求中任一项的方法中的应用，其中，所 述粉末材料的粒度为150μm或更小。

19.如权利要求18所述的应用，其特征在于，所述金属粉末是以下组成的合 金：钼，94-99重量％；铌，1-6重量％；锆，0.05-1重量％。