[发明专利]向表面施加涂层的方法有效
| 申请号: | 200810213705.6 | 申请日: | 2006-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN101368262A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
| 发明(设计)人: | S·齐默尔曼;U·帕普;H·凯勒;S·A·米勒 | 申请(专利权)人: | H.C.施塔克有限公司;H.C.施塔克公司 |
| 主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 项丹 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 表面 施加 涂层 方法 | ||
本发明专利申请是国际申请号为PCT/EP2006/003969,国际申请日为2006 年4月28日,进入中国国家阶段的申请号为200680015339.2,名称为“用于 制造或再加工溅射靶和X-射线阳极的涂覆方法”的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及向表面施加涂层的方法,具体涉及在溅射靶或X-射线阳极上施 加层的方法,所述层仅含有少量的气体杂质如氧气。
背景技术
在表面上施加难熔金属层会产生许多问题。
在熟悉的方法中,金属通常完全或部分熔化,结果金属易于氧化或吸收其它 气体杂质。因此,必须在惰性气体或真空中进行常规的方法如堆焊和等离子喷涂。
在这种情况下,需要较高的设备开销,并且构件的尺寸是受限制的,其中气 体杂质的含量仍然不能令人满意。
引入大量的输送到要涂覆的物体上的热会使得变形的可能性非常大,导致这 些方法不能用在复杂构件的情况(通常还包括在低温下熔融的部件)中。具体地说, 这些构件是所谓的溅射靶,即,用在金属的阴极溅射中的金属源。因此,复杂构件 必须在加工之前拆卸,结果导致实践中所述加工不经济,并且只能进行构件材料的 再利用(废弃)。
在真空等离子喷涂中,源自使用的电极的钨和铜杂质会引入层中,结果导致 了不利的情况。例如,如果钽或铌层用于防腐,则这些杂质会通过形成所谓的微原 电池降低涂层的保护作用。在溅射靶的情况下,这一污染会导致部件变得不能用。
并且,这些方法是熔融冶金方法,总是包含其固有的缺点,如单向颗粒生长。 这具体发生在激光加工中,其中,合适的粉末施加在表面上并且通过激光束熔化。 另一个问题是多孔性,这具体可在这样的情况下观察到:金属粉末先施加,接着用 热源熔化。在WO02/064287中已试图仅通过用能量束如激光束表面熔化和烧结粉 末颗粒来解决这些问题。但是,结果并不总是令人满意的,较高的设备开销是必需 的,且一些相关的问题确实解决了,但是无论如何在复杂构件中引入高热量的问题 仍然存在。
WO-A-03/106,051公开了用于低压冷喷涂的方法和设备。在该方法中,将粉末 颗粒涂料在基本上室温下,于气体中喷涂在工件上。该方法在低于大气压的低压环 境中进行,以加速喷涂的粉末颗粒。使用该方法,粉末涂层形成在工件上。
EP-A-1,382,720公开了用于低压冷喷涂的另一种方法和设备。在该方法中,将 要涂覆的靶和冷喷枪置于低于80kPa压力的真空室内。使用该方法,用粉末涂覆工 件。
发明内容
鉴于现有技术,本发明的目的是提供新颖的用于溅射靶或X-射线阳极的再利 用方法,其中不需要材料的再利用或者靶的拆卸,该方法的区别在于引入的热量低, 设备的开销少,对于各种载体材料和溅射材料或X-射线阳极材料具有广泛的应用 性,其中,要施加的金属在加工过程中不熔化或表面熔化。
一方面,本发明提供了一种向表面施加涂层的方法,其中,气流与选自铌、 钽、钨、钼、钛、锆、它们中的至少两种的混合物、或者它们中的至少两种的 合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体-粉末混合物,所述粉末的 粒度为0.5-150μm,其中,将超音速赋予所述气流,并将该超音速的喷射口导 向物体的表面。
在一个优选的实施方式中,加入所述气体中的粉末的量保证颗粒的流量密 度为0.01-200g/s cm2,较佳的是0.01-100g/s cm2,非常好的是0.01-20g/s cm2, 或者最好的是0.05-17g/s cm2。
在另一个优选的实施方式中,所述喷涂包括以下步骤:
-提供与要通过喷射涂覆的表面相邻的喷射口;
-向喷射口提供微粒材料的粉末,所述微粒材料选自铌、钽、钨、钼、钛、 锆、它们中的至少两种的混合物、或者它们相互之间的合金或与其它金属的合 金,所述粉末的粒度为0.5-150μm,所述粉末处于压力下;
-在压力下将惰性气体提供到喷射口,以在喷射口处形成静压,并在要涂 覆的表面上喷射所述微粒材料和气体;以及
-将喷射口置于小于1个大气压,并且基本上小于喷射口处的静压的低压的 区域中,以充分加速所述微粒材料和气体喷射到要所述涂覆的表面上。
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