[发明专利]硬质包覆层发挥优异耐磨性的表面包覆切削工具有效
申请号: | 200810185276.6 | 申请日: | 2008-12-24 |
公开(公告)号: | CN101468401A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 富田兴平;西山满康;长田晃;中村惠滋 | 申请(专利权)人: | 三菱麻铁里亚尔株式会社 |
主分类号: | B23B27/14 | 分类号: | B23B27/14;B23B51/00;B23C5/00;C23C14/24;C23C14/06;C23C14/08;B32B9/00;B32B33/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;孙秀武 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硬质 覆层 发挥 优异 耐磨性 表面 切削 工具 | ||
1.一种表面包覆切削工具,其在由碳化钨基硬质合金或碳氮化钛 基金属陶瓷构成的工具基体的表面上,蒸镀形成包括下述(a)下部层、 (b)上部层的硬质包覆层,
(a)下部层为整体平均层厚为3~20μm的包括Ti的碳化物层、氮 化物层、碳氮化物层、碳氧化物层、和碳氮氧化物中的1层或2层以上 的Ti化合物层,
(b)上部层为具有2~15μm的平均层厚,且具有α型的晶体结构, 含有Zr的氧化铝层;
用场致发射型扫描电子显微镜对上述上部层进行组织观察时,具有 包括在垂直于层厚方向的面内具有平板多边形、及在平行于层厚方向的 面内在层厚方向呈竖长状的晶粒的组织结构,
对于该上部层,使用场致发射型扫描电子显微镜和电子背散射衍射 图像装置,对存在于表面抛光面的测定范围内的晶粒逐个照射电子射 线,测定包括六方晶晶体点阵的晶体点阵面的各个法线与上述表面抛光 面的法线相交的角度,
由该测定结果算出相邻晶体点阵相互的晶体方位关系,算出各个构 成晶体点阵界面的构成原子在上述晶体点阵相互间共有1个构成原子的 阵点、即构成原子共有阵点的分布,用∑N+1表示存在N个上述构成 原子共有阵点间不共有构成原子的阵点的构成原子共有阵点形态时,构 成上述上部层的晶粒中,以面积比率计为60%以上的晶粒的内部,被至 少一个以上的、包括用∑3表示的构成原子共有阵点形态的晶体点阵界 面隔断,
其中,N为刚玉型密排六方晶体的晶体结构上2以上的偶数,在分 布频率上N的上限为28时,不存在4、8、14、24和26的偶数。
2.如权利要求1所述的表面包覆切削工具,其中,用场致发射型 扫描电子显微镜对上述上部层(b)进行组织观察时,在垂直于层厚方 向的面内具有平坦六边形、及在平行于层厚方向的面内在层厚方向呈竖 长状的晶粒,在垂直于层厚方向的面内占全体35%以上的面积比例。
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