[发明专利]显示器用间隔层的制造方法

权利要求书

1.一种场发射组件用间隔层的制造方法，其包括以下的步骤：

提供一基板；

于该基板表面涂布一离型层；

于该离型层上涂布一牺牲层；

图案化该牺牲层；

将一玻璃胶形成于该离型层上；

加热烧结该玻璃胶以形成一间隔层，并移除该牺牲层；以及

分离该间隔层与该基板。

2.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该基板的材质选自由玻璃、金属、不锈钢及陶瓷所组成的群组。

3.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该离型层为石墨、陶瓷粉、乳化剂、水性溶剂或其混合物。

4.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该牺牲层经由图案化形成具孔洞的牺牲层或复数个牺牲层柱体。

5.如权利要求4所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该图案化牺牲层柱体的形状为圆形、矩形、三角形、多边形、不规则形或上述各形状的组合。

6.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该图案化的牺牲层为一干膜。

7.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，于该离型层表面形成该玻璃胶是以浇灌或网版印刷的方式形成。

8.如权利要求7所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该牺牲层移除前先在该牺牲层熔点温度以下烘烤，而后再移除该牺牲层。

9.如权利要求7所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该牺牲层是以湿式酸碱移除。

10.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，烧结温度为450至550℃。

11.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，烧结后需移除该牺牲层残留的碳渣。

12.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该牺牲层的高度为500μm以上。

13.如权利要求1所述的场发射组件间隔物的制造方法，其中，该玻璃胶为氧化铅、氧化硼、氧化锌、氧化硅、氧化钠、氧化铝、氧化钙或其混合物。