[发明专利]紫外线照射处理装置有效

专利信息
申请号: 200810171076.5 申请日: 2008-11-06
公开(公告)号: CN101431000A 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: 远藤真一;山森贤治;冈本敏之 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: H01J65/04 分类号: H01J65/04;H01L21/26
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陆锦华;关兆辉
地址: 日本国东京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 紫外线 照射 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种紫外线照射处理装置,包括准分子灯,该准分子灯具有由 扁平筒状的电介质材料构成的放电容器,该放电容器包括:一对平坦 壁,彼此相对地沿着管轴延伸;该平坦壁间的一对侧壁;以及弯曲部, 在该平坦壁与侧壁间连续地形成,在形成于该放电容器内的密闭空间 封入有放电气体,并且在一个上述平坦壁配置的高压电极和在与处理 体靠近且相对的另一个上述平坦壁配置的具有透光性的接地电极,夹 着上述密闭空间而位于上述放电容器的外表面,

该紫外线照射处理装置向处理体照射从上述准分子灯放射的紫外 光,其特征在于,

上述高压电极的端部与上述接地电极的端部之间的沿着放电容器 的表面的沿面放电距离小于从上述高压电极的端部到上述处理体为止 的最短放电距离。

2.如权利要求1所述的紫外线照射处理装置,其特征在于,

上述接地电极沿着上述弯曲部的至少一部分进行配置。

3.如权利要求1所述的紫外线照射处理装置,其特征在于,

上述高压电极端与上述接地电极端的沿面放电距离,比上述高压 电极端与上述处理体的最短放电距离小1.5mm以上。

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