[发明专利]用于形成薄膜晶体管液晶显示装置中的电路的蚀刻剂组合物

权利要求书

1.一种蚀刻剂组合物，基于所述蚀刻剂组合物的总重量，包含：55-75wt％的磷酸、0.75-1.99wt％的硝酸、10-20wt％的醋酸、0.05-0.5wt％的Mo蚀刻控制剂、0.02-3wt％的含硼化合物和余量的水，所述Mo蚀刻控制剂包括至少一种选自MH₂PO₄、M₂HPO₄、M₃PO₄、MHSO₄、M₂SO₄、CH₃COOM、MHCO₃、M₂CO₃、MNO₃和M₂C₂O₄的盐，其中M为NH₄、Na或K，所述含硼化合物包括至少一种选自H₃BO₃、B₂O₃、KBO₂、NaBO₂、HBO₂、H₂B₄O₇、Na₂B₄O₇·10H₂O和KB₅O₈·4H₂O的化合物。

2.如权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述Mo蚀刻控制剂包括至少一种选自KNO₃、CH₃COOK、NH₄NO₃、CH₃COONH₄、KH₂PO₄、(NH₄)H₂PO₄和KHSO₄的盐。

3.如权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述Mo蚀刻控制剂为KNO₃或CH₃COONH₄。

4.如权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述含硼化合物是在蚀刻剂组合物中分解且形成硼离子或含硼离子的化合物。

5.如权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述含硼化合物为H₃BO₃。