[发明专利]成像设备有效

专利信息
申请号: 200810091467.6 申请日: 2008-04-17
公开(公告)号: CN101339378A 公开(公告)日: 2009-01-07
发明(设计)人: 井上敏司;高木正博;吉原宏太郎;井口萌木 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G15/00 分类号: G03G15/00;G03G21/00;G03G15/02;G03G9/087;G03G9/08
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 党晓林
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种成像设备,该成像设备包括:

图像保持部件,该图像保持部件受驱动而旋转;

充电部件,该充电部件与所述图像保持部件的表面接触并随着所述 图像保持部件的旋转而旋转,从而对所述图像保持部件进行接触充电;

潜像形成单元,该潜像形成单元在经所述充电部件充电的所述图像 保持部件上形成静电潜像;

显影单元,该显影单元利用包含调色剂和载体的显影剂对所述图像 保持部件上形成的静电潜像进行显影,从而根据所述静电潜像形成调色 剂图像,所述调色剂包含具有体积平均粒径为80nm~120nm的第一无 机颗粒的外添剂,而所述载体包含磁性粉末分散在苯酚类树脂中的芯材 和包覆所述芯材的树脂包覆层;

转印单元,该转印单元将所述调色剂图像转印到转印接受部件上;

清除单元,该清除单元除去所述图像保持部件上的附着物;和

聚集体形成单元,该聚集体形成单元与所述充电部件的表面接触并 随着所述充电部件的旋转而旋转,从而从所述充电部件的表面除去附着 在所述充电部件的表面上的包括所述第一无机颗粒在内的附着物,并使 其形成聚集有被除去的所述第一无机颗粒的聚集体,

其中所述聚集体形成单元包含芯体和在所述芯体的外周形成的多孔 层,所述多孔层的表面中的泡孔的平均孔径为包含在所述显影剂中的无 机颗粒的体积平均粒径的1000~6000倍,

所述多孔层具有互连的泡孔结构,该互连的泡孔结构中的泡孔计数 在40/25mm~80/25mm的范围内。

2.如权利要求1所述的成像设备,其中,相对于调色剂母粒,所述 无机颗粒的含量按重量计算为0.5%~2.5%。

3.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述调色剂还包含体积平 均粒径为7nm~60nm的第二无机颗粒。

4.如权利要求3所述的成像设备,其中,相对于调色剂母粒,所述 第二无机颗粒的含量按重量计算为0.5%~3.0%。

5.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述第一无机颗粒的表面 已经用疏水剂进行了疏水化处理。

6.如权利要求5所述的成像设备,其中,相对于所述第一无机颗粒 的量,所述疏水剂的量按重量计算为5%~50%。

7.如权利要求5所述的成像设备,其中,在用所述疏水剂进行疏水 化处理后所述外添剂的疏水度为40%~100%。

8.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述无机颗粒的Wadell 球形度为至少0.6。

9.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述调色剂还包含粘合剂 树脂,并且所述粘合剂树脂为苯乙烯-丙烯酸烷基酯共聚物和/或苯乙烯- 甲基丙烯酸烷基酯共聚物。

10.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述调色剂还包含脱模 剂,并且相对于调色剂母粒的量,该脱模剂的含量按重量计算为1%~20 %。

11.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述调色剂的作为粒度 分布指数的体积平均粒径/数量平均粒径的值为1.6以下。

12.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述磁性粉末为氧化铁。

13.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述磁性粉末的粒径为 0.01μm~1μm。

14.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述磁性粉末在所述载 体的所述芯材中的含量按重量计算为30%~99%。

15.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述树脂包覆层包含导 电颗粒。

16.如权利要求15所述的成像设备,其中,所述导电颗粒在所述树 脂包覆层中的含量按重量计算为1%~50%。

17.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述树脂包覆层的平均 厚度为0.1μm~5μm。

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